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柔性基底微晶硅薄膜的快速、均勻制備方法

859 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:23:04

一種柔性基底微晶硅薄膜快速、均勻制備的方法,具體步驟:(1)將柔性基底置于真空腔室內(nèi);(2)所述柔性基底通過輝光等離子體清洗活化提高鍍制膜層的附著力;(3)采用熱絲輔助甚高頻等離子增強化學氣相沉積方法沉積微晶硅薄膜。本發(fā)明創(chuàng)新性地采用熱絲輔助甚高頻等離子體增強化學氣相沉積方法,在低溫下實現(xiàn)柔性基底高質(zhì)量、高沉積速率、均勻性好的微晶硅薄膜的制備。應用于薄膜太陽電池,可以有效地提高電池穩(wěn)定性和效率。柔性微晶硅薄膜太陽電池具備高質(zhì)量比功率、輕質(zhì)、可彎曲、不易損壞等顯著特點,在平流層飛艇、無人機、微小衛(wèi)星、深空探測衛(wèi)星、空間電站以及地面軍事智能化裝備等方面具有非常廣泛的應用前景。

聲明：

“柔性基底微晶硅薄膜的快速、均勻制備方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)