本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備的觀察結(jié)構(gòu),鍍膜設(shè)備包括真空室,包括:遮擋部件,設(shè)于所述真空室的室壁的觀測(cè)孔內(nèi),所述遮擋部件包括遮擋部和鏤空部;透明罩體,對(duì)應(yīng)設(shè)于所述觀測(cè)孔所在的真空室的外壁上。本實(shí)用新型還提供了一種具有鍍膜設(shè)備的觀察結(jié)構(gòu)的鍍膜設(shè)備,有效的減小的觀測(cè)孔的觀測(cè)面積,防止了觀測(cè)孔處發(fā)生異常起輝反應(yīng)或打火現(xiàn)象,從而避免了異常起輝反應(yīng)或打火現(xiàn)象對(duì)真空室內(nèi)的化學(xué)氣相沉積工藝的干擾問(wèn)題;同時(shí),還避免通過(guò)觀測(cè)孔觀察時(shí),因異常起輝現(xiàn)象的輝光過(guò)于強(qiáng)烈,而刺激雙眼的情況,避免了出現(xiàn)射頻泄漏情況的概率,也減小了對(duì)周圍環(huán)境造成的傷害,保證鍍膜設(shè)備在有效反應(yīng)工藝區(qū)進(jìn)行正常的工藝鍍膜。
聲明:
“鍍膜設(shè)備的觀察結(jié)構(gòu)及鍍膜設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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