本發(fā)明屬于光學(xué)儀器及配件技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種光學(xué)平面基片的制作方法;其特征在于它包含有依次進(jìn)行的以下步驟:選取原材料、預(yù)成型、仿形、研磨、拋光、清洗、檢驗(yàn)。本發(fā)明采用物理與化學(xué)結(jié)合的方式制作光學(xué)平面基片,工序大部分采用機(jī)器進(jìn)行,人工參與的很少;因此,本發(fā)明具有以下有益效果:光學(xué)平面基片制作時(shí)間短、產(chǎn)品間的差異小、適合于工業(yè)大規(guī)模應(yīng)用、效率高,所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度參數(shù)好。
聲明:
“光學(xué)平面基片的制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)