本申請?zhí)峁┮r底減薄腐蝕去除裝置,包括噴淋組件、蝕刻液容器和樣品臺組件,其中,噴淋組件包括固定支架,固定支架上分別固設有進液管、進氣管和排氣管,進液管的出口處設有噴嘴,進氣管的出口位于噴嘴的上方,固定支架兩側(cè)分別與蝕刻液容器的內(nèi)側(cè)連接,進液管的入口端位于蝕刻液容器內(nèi),樣品臺組件位于蝕刻液容器的中心位置且能夠繞蝕刻液容器的中心線旋轉(zhuǎn),樣品臺組件頂部設有用于布置焦平面探測器
芯片組的固定部件,固定部件位于噴嘴下方且與噴嘴相對設置。本申請能夠解決濕化學腐蝕方法在襯底減薄腐蝕去除過程中因為腐蝕速率差異造成的邊緣過腐蝕問題,提高腐蝕過程的均勻性、一致性,進而減少腐蝕工藝對探測器光電性能的影響。
聲明:
“襯底減薄腐蝕去除裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)