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刻蝕機臺的處理方法

703   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:56:51
一種刻蝕機臺的處理方法包括:預處理:向所述刻蝕機臺的反應腔內(nèi)多次打入含有氧自由基及氫自由基的等離子體,以去除反應腔內(nèi)的水汽及反應腔表面的Si?C鍵;灰化處理:將表面具有光刻膠的晶圓控片置于所述反應腔內(nèi),并采用含有氧自由基的等離子體對光刻膠進行處理,以使光刻膠解離,且去除反應腔表面的Si?OH鍵,解離產(chǎn)物能夠附著在所述反應腔表面。本發(fā)明刻蝕機臺的處理方法能夠避免等離子體與反應腔表面的化學鍵結(jié)合,從而避免在后續(xù)的測機作業(yè)中出現(xiàn)顆粒物數(shù)量過高的情況,大大減小刻蝕機臺宕機時間及次數(shù)。
聲明:
“刻蝕機臺的處理方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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