本發(fā)明涉及流場測量標(biāo)定技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高焓流場中原子濃度標(biāo)定系統(tǒng)及方法。標(biāo)定系統(tǒng)提供了一個(gè)常溫下的同種原子的標(biāo)定源,通過使用同一脈沖激光分束后同時(shí)導(dǎo)入兩個(gè)不同腔體內(nèi),不飽和激發(fā)分別位于兩個(gè)腔體內(nèi)的定標(biāo)用原子和待標(biāo)定原子產(chǎn)生熒光信號(hào),能夠保證激光屬性相同,在光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)相同的情況下,可以通過熒光信號(hào)強(qiáng)度、激光能量、原子濃度使待標(biāo)定流場原子濃度與定標(biāo)用原子濃度建立聯(lián)系,實(shí)現(xiàn)對待標(biāo)定原子濃度的標(biāo)定。標(biāo)定方法通過標(biāo)定系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高焓流場中原子濃度的標(biāo)定,采用化學(xué)滴定的方法獲取定標(biāo)用原子濃度,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的可量化和溯源。
聲明:
“高焓流場中原子濃度標(biāo)定系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)