該實(shí)用新型公開了一種用于半導(dǎo)體加工設(shè)備的吸收罩及半導(dǎo)體加工設(shè)備,所述吸收罩內(nèi)形成有操作腔,所述吸收罩的底部設(shè)有罩設(shè)口,用于罩設(shè)于機(jī)臺(tái)上,所述吸收罩還設(shè)有連通所述操作腔與外界的吸氣口和操作口,所述吸氣口用于連接吸氣管道,所述操作口用于操作者的手伸入所述操作腔內(nèi)。根據(jù)本實(shí)用新型的用于半導(dǎo)體加工設(shè)備的吸收罩,能夠避免由于化學(xué)品揮發(fā)導(dǎo)致的氣體偵測(cè)器誤報(bào)警,以降低工作人員的工作負(fù)荷。
聲明:
“用于半導(dǎo)體加工設(shè)備的吸收罩及半導(dǎo)體加工設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)