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基于導(dǎo)電基底直接生長(zhǎng)氮摻雜碳?鈷復(fù)合物微片陣列的超級(jí)電容器負(fù)極

781   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:57:39
本實(shí)用新型公開了一種基于導(dǎo)電基底直接生長(zhǎng)氮摻雜碳?鈷復(fù)合物微片陣列的超級(jí)電容器負(fù)極,所述負(fù)極包括導(dǎo)電基底、N摻雜碳微片,所述導(dǎo)電基底呈多孔狀,所述N摻雜碳微片呈葉片狀并陣列垂直分布于導(dǎo)電基底上,所述N摻雜碳微片包含均勻分布的Co納米粒子。發(fā)明公開的負(fù)極結(jié)構(gòu)氮摻雜碳?鈷復(fù)合物微片陣列直接生長(zhǎng)在導(dǎo)電基底上,其具有很高的電子遷移率,有利于實(shí)現(xiàn)快速充放電,將所述負(fù)極進(jìn)行電化學(xué)性質(zhì)測(cè)試,在不同的掃速下,所述電極的循環(huán)伏安均顯示相似的矩形形狀,不同的電流密度下充放電曲線均顯示線性特點(diǎn),其表現(xiàn)了碳材料雙電層特征。在增大電流密度時(shí),所述電極的質(zhì)量比容量變化較小,表明其作為超電容器負(fù)極有較好的倍率特性。
聲明:
“基于導(dǎo)電基底直接生長(zhǎng)氮摻雜碳?鈷復(fù)合物微片陣列的超級(jí)電容器負(fù)極” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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