一種采用變溫PL譜獲取
半導體材料雜質電離能的無損測量方法,其是通過分析半導體材料變溫PL譜譜峰強度隨溫度升高而下降的熱淬滅行為,計算獲得半導體材料的雜質電離能,具體方法包括:步驟1:測量待測半導體材料的變溫PL譜;步驟2:通過譜峰擬合,獲得待測半導體材料在不同溫度下的熱淬滅峰譜峰強度;步驟3:擬合熱淬滅峰譜峰強度?溫度關系實驗數據,獲得半導體材料雜質電離能,包括施主雜質電離能和受主雜質電離能;步驟4:重復步驟1?3,多次測量待測半導體材料的雜質電離能,采用最小二乘法,計算多次測量后的雜質電離能。本發(fā)明是利用無損的光譜解析技術,克服了現有測試手段復雜有損的技術缺點,不僅快速簡便、精度高,而且對于測試材料無損。
聲明:
“采用變溫PL譜獲取半導體材料雜質電離能的無損測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)