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基于量子Zeno效應下光學材料折射率的無損耗測量裝置

907 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 08:57:59

本發(fā)明屬于量子精密測量技術領域，公開了一種基于量子Zeno效應下光學材料折射率的測量裝置，包括：基膜高斯光束、高階拉蓋爾高斯光束、不等臂MZ干涉儀、以及高分辨率CCD成像系統(tǒng)；基膜高斯光束和高階拉蓋爾高斯光束具有鎖定的頻率差；其中不等臂MZ干涉儀包括經(jīng)第一分束鏡、上臂結構和下臂結構和第二分束鏡，基膜高斯光束和高階拉蓋爾高斯光束從第一分束鏡的同側入射后，分別經(jīng)上臂結構和下臂結構后從兩側分別入射至第二分束鏡，高分辨CCD成像系統(tǒng)設置在下臂結構的同側。本發(fā)明結構簡單緊湊、可在無損耗條件下實現(xiàn)精確測量。

聲明：

“基于量子Zeno效應下光學材料折射率的無損耗測量裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)