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基于單對(duì)電極電容成像檢測(cè)技術(shù)提離效應(yīng)的缺陷判別方法

1051   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:08
本發(fā)明公開了一種基于單對(duì)電極電容成像檢測(cè)技術(shù)提離效應(yīng)的缺陷判別方法,涉及無損檢測(cè)信號(hào)處理領(lǐng)域,包括:接收輸入的單對(duì)電極電容成像n次提離檢測(cè)信號(hào),對(duì)所述Ln提離下求缺陷判別畸變率信號(hào)ΔYn=(Yn?Ybn)/Ybn,并將所述畸變率信號(hào)ΔYn輸入到低通濾波器;判斷低通濾波器輸出的ΔYn的絕對(duì)值是否大于等于預(yù)設(shè)閥值P0;如果是,判斷有缺陷存在;如果否,判斷缺陷不存在;當(dāng)缺陷存在,判斷所述ΔYn是否小于0;如果是,判斷缺陷為非導(dǎo)體層表面缺陷;如果否,判斷ΔYn是否大于ΔYn?1;如果是,判斷缺陷為非導(dǎo)體層內(nèi)部缺陷;如果一直不存在ΔYn大于ΔYn?1,判斷缺陷為分界面缺陷。本發(fā)明通過對(duì)多提離檢測(cè)信號(hào)進(jìn)行處理,進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)判別缺陷類型和實(shí)現(xiàn)報(bào)警。
聲明:
“基于單對(duì)電極電容成像檢測(cè)技術(shù)提離效應(yīng)的缺陷判別方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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