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用于消除光學(xué)晶體超精密加工亞表面損傷檢測(cè)樣品安裝誤差的方法

1020   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:11
用于消除光學(xué)晶體超精密加工亞表面損傷檢測(cè)樣品安裝誤差的方法,本發(fā)明涉及用于消除光學(xué)晶體亞表面損傷檢測(cè)樣品安裝誤差的方法。本發(fā)明為了解決光學(xué)晶體超精密加工亞表面損傷無損檢測(cè)中存在樣品安裝誤差問題。本發(fā)明包括:一:安裝被檢測(cè)光學(xué)晶體;二:調(diào)整X射線源初始位置;三:使X射線與被檢測(cè)光學(xué)晶體表面之間形成實(shí)際入射角ω′并固定;四:進(jìn)行檢測(cè);五:得到不同實(shí)際入射角ω′條件下X射線與檢測(cè)表面和亞表面晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生衍射的特征譜線信息;六:計(jì)算樣品安裝角度誤差δ;七:根據(jù)得到的δ修正實(shí)際入射角ω′,消除光學(xué)晶體超精密加工亞表面損傷檢測(cè)過程中由于樣品安裝造成的誤差。本發(fā)明用于光學(xué)晶體表面損傷檢測(cè)領(lǐng)域。
聲明:
“用于消除光學(xué)晶體超精密加工亞表面損傷檢測(cè)樣品安裝誤差的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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