本發(fā)明公開一種原位光學(xué)檢測(cè)裝置，應(yīng)用于原子層沉積設(shè)備，包括光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)和光學(xué)鏡頭配套組件，光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)設(shè)置在原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室外部，光學(xué)鏡頭配套組件包括鏡頭腔和設(shè)置在鏡頭腔內(nèi)的光學(xué)鏡頭、轉(zhuǎn)角組件和光學(xué)鏡頭延長(zhǎng)管，轉(zhuǎn)角組件兩端分別連接光學(xué)鏡頭和光學(xué)鏡頭延長(zhǎng)管；光學(xué)測(cè)試系統(tǒng)通過光學(xué)組件與光學(xué)鏡頭延長(zhǎng)管連接，形成測(cè)試光路；鏡頭腔通過第一法蘭組件固定在反應(yīng)腔室的側(cè)壁上。本發(fā)明可進(jìn)行光學(xué)無(wú)損檢測(cè)，并且可以在光學(xué)原位檢測(cè)的輔佐下控制薄膜初始生長(zhǎng)階段的模式。同時(shí)，在原子層沉積系統(tǒng)中，可進(jìn)一步的設(shè)計(jì)和開發(fā)新的人工改性半導(dǎo)體材料，為各種高質(zhì)量、具有特異性能的二維薄膜的制備，提供有力的理論及實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)。