本發(fā)明公開了一種結(jié)構(gòu)光調(diào)制的暗場顯微缺陷三維測量裝置與方法,所述三維測量裝置包括光源、空間光調(diào)制器、第一透鏡、分光鏡、顯微物鏡、第二透鏡、第三透鏡、濾波器、第四透鏡和CCD;所述空間光調(diào)制器用于接收光源發(fā)出的光并調(diào)制成結(jié)構(gòu)光;所述空間光調(diào)制器調(diào)制的結(jié)構(gòu)光依次經(jīng)過第一透鏡、分光鏡和顯微物鏡微縮投影至樣品上并在樣品上反射形成零級光和一級光;所述零級光依次經(jīng)過顯微物鏡、第二透鏡和第三透鏡達(dá)到濾波器;所述一級光依次經(jīng)過顯微物鏡、第二透鏡、第三透鏡和第四透鏡到達(dá)CCD成像。本發(fā)明解決了現(xiàn)有無損檢測方法存在照明背景光和離焦光干擾缺陷散射光成像的問題。
聲明:
“結(jié)構(gòu)光調(diào)制的暗場顯微缺陷三維測量裝置與方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)