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基于雙鏡反射的均勻應(yīng)變光學(xué)測(cè)量裝置及方法

865   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:33
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于雙鏡反射的均勻應(yīng)變光學(xué)測(cè)量裝置,包括光源、第一反射鏡、第二反射鏡、攝像機(jī)和處理器;光源用于產(chǎn)生非相干光,照射被測(cè)樣品的第一被測(cè)面和第二被測(cè)面,第一被測(cè)面和第二被測(cè)面相互平行,且第一被測(cè)面和第二被測(cè)面均與攝像機(jī)光軸平行;第一反射鏡,用于使第一被測(cè)面經(jīng)其反射至攝像機(jī)鏡頭并成像;第二反射鏡,用于使第二被測(cè)面經(jīng)其反射至攝像機(jī)鏡頭并成像;攝像機(jī),用于在同一幅圖像中同時(shí)采集第一被測(cè)面和第二被測(cè)面的圖像,并傳輸至處理器進(jìn)行處理,得到被測(cè)樣品的應(yīng)變。本發(fā)明還公開(kāi)了一種基于雙鏡反射的均勻應(yīng)變光學(xué)測(cè)量裝置的測(cè)量方法,本發(fā)明能夠?qū)τ谐跏紡澢谋粶y(cè)樣品進(jìn)行無(wú)損測(cè)量,修正離面剛體位移引起的虛假應(yīng)變。
聲明:
“基于雙鏡反射的均勻應(yīng)變光學(xué)測(cè)量裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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