本發(fā)明公開了一種哈密瓜表面農(nóng)藥殘留鑒別模型的構(gòu)建方法,該方法包含制備用于對模型進(jìn)行訓(xùn)練的哈密瓜樣本,采集哈密瓜樣本的高光譜圖像,提取高光譜圖像的光譜數(shù)據(jù)并對其預(yù)處理,對蜜獾算法HBA采用自適應(yīng)t分布突變方法進(jìn)行突變處理;輸入預(yù)處理后的光譜數(shù)據(jù),并將該光譜數(shù)據(jù)分為測試集和訓(xùn)練集,利用突變后的tHBA算法對ELM分類模型進(jìn)行優(yōu)化處理,獲得最終鑒別模型tHBA?ELM;本發(fā)明還公開了一種哈密瓜表面農(nóng)藥殘留鑒別方法,該方法利用上述構(gòu)建方法構(gòu)建的鑒別模型對待檢測哈密瓜樣本進(jìn)行檢測并輸出鑒別結(jié)果,利用該鑒別模型不僅可對哈密瓜表面農(nóng)藥殘留進(jìn)行無損檢測,而且檢測效率高,同時(shí),可對不同種類農(nóng)藥進(jìn)行精準(zhǔn)鑒別。
聲明:
“哈密瓜表面農(nóng)藥殘留鑒別方法及鑒別模型構(gòu)建方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)