本實(shí)用新型公開了一種基于反射式太赫茲光譜第一鏡表面雜質(zhì)分析裝置,包括:計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)、波長(zhǎng)可調(diào)太赫茲波發(fā)射模塊、太赫茲波接收模塊、三維掃描系統(tǒng)、磁約束聚變裝置、若干拋面鏡。本實(shí)用新型利用太赫茲波及光學(xué)過程層析成像技術(shù),可以實(shí)現(xiàn)無損、原位、在線分析磁約束聚變裝置第一鏡表面雜質(zhì)沉積層的成分及結(jié)構(gòu)信息,對(duì)監(jiān)測(cè)雜質(zhì)灰塵分布情況,氘氚燃料滯留等熱點(diǎn)問題有著不可比擬的優(yōu)勢(shì)。依據(jù)本實(shí)用新型可以開發(fā)出用于監(jiān)測(cè)磁約束聚變裝置內(nèi)第一鏡、第一壁表面沉積放電產(chǎn)生的雜質(zhì),及滯留的氘氚燃料,在安全檢測(cè)領(lǐng)域必定有著廣闊的應(yīng)用前景。
聲明:
“基于反射式太赫茲光譜第一鏡表面雜質(zhì)分析裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)