本發(fā)明公開了一種低氧鉻靶及其制造方法,包括以下步驟:①將一定粒度的純鉻粉末進行氫氣還原處理;②將還原后的純鉻粉末填充、裝實至模具中,再將純鉻粉末連同模具置于充滿液態(tài)介質(zhì)的封閉高壓容器內(nèi)進行預(yù)壓制處理,得到鉻金屬塊體;③將鉻金屬塊體置于熱等靜壓設(shè)備中進行二次壓制,得到鉻靶坯;④將得到的鉻靶坯進行退火熱處理;⑤利用無損檢測工藝篩選出合格的鉻靶坯,再將合格的鉻靶坯機工加成所需尺寸,即得到成品鉻靶。通過本發(fā)明制造方法可得到低氧高純、幾近致密、晶粒細小且均勻的各向同性鉻靶,能夠滿足光電行業(yè)的物理氣相沉積技術(shù)需求,同時通過特種塑膠模具可重復(fù)利用,顯著提升生產(chǎn)效率、降低鉻靶材制造成本。
聲明:
“低氧鉻靶及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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