本申請(qǐng)涉及失效分析技術(shù)領(lǐng)域,具體公開一種器件失效分析定位方法,包括:對(duì)掃描探頭進(jìn)行校準(zhǔn),獲取校準(zhǔn)數(shù)據(jù);控制掃描探頭對(duì)待測(cè)器件進(jìn)行掃描,并獲得第一參數(shù)信息,第一參數(shù)信息用于表征待測(cè)器件掃描高度平面的電磁場(chǎng)信息;根據(jù)第一參數(shù)信息和校準(zhǔn)數(shù)據(jù),確定待測(cè)器件目標(biāo)高度平面的電磁場(chǎng)信息;根據(jù)待測(cè)器件目標(biāo)高度平面的電磁場(chǎng)信息,確定待測(cè)器件表面的電學(xué)分布;根據(jù)待測(cè)器件表面的電學(xué)分布,確定待測(cè)器件的失效位置?;陔姶抛⑷牒吞綔y(cè)的原理,結(jié)合待測(cè)器件表面的電磁場(chǎng)信息實(shí)現(xiàn)對(duì)待測(cè)器件的失效位置的分析,相對(duì)于傳統(tǒng)的失效分析方法而言,成本較低,且無(wú)需對(duì)待測(cè)器件進(jìn)行破壞,整體失效定位方法可靠性較高。
聲明:
“器件失效定位分析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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