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識別超低k介質TDDB失效模式的測試結構

1021 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-19 08:59:34

本實用新型提供一種識別超低k介質TDDB失效模式的測試結構，包括：TDDB測試結構，包括間隔且并排設置的第一TDDB測試結構、第二TDDB測試結構和第三TDDB測試結構；大塊源區(qū)域，對稱位于第二TDDB測試結構的兩側，適于提供銅離子源或水汽源；其中，所述水汽源的外周設有環(huán)狀的隔水結構，且所述隔水結構面對所述第二TDDB測試結構的一側均設有開口；偽柵結構，分別位于大塊源區(qū)域與第一TDDB測試結構之間以及大塊源區(qū)域與第三TDDB測試結構之間，適于隔離各個TDDB測試結構，使其獨立工作。本實用新型可同時識別銅離子擴散模式和水分滲透模式的超低k介質TDDB失效問題，利于排除故障，節(jié)約時間；所述測試結構適于電容測試、斜坡電壓測試、TDDB測試以及漏電流測試。

聲明：

“識別超低k介質TDDB失效模式的測試結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)