本發(fā)明的一種失效點定位方法，包括：在硅襯底上選取測試結(jié)構(gòu)區(qū)域；在測試結(jié)構(gòu)區(qū)域中形成互連層結(jié)構(gòu)，該互連層結(jié)構(gòu)的上、下方不設(shè)置偽金屬結(jié)構(gòu)；選取該互連層結(jié)構(gòu)作為測試結(jié)構(gòu)，采用光誘導(dǎo)電阻變化技術(shù)對該測試結(jié)構(gòu)進行失效點定位；其中，互連層結(jié)構(gòu)的形成方法包括：設(shè)計光刻版圖案，測試結(jié)構(gòu)區(qū)域中的互連層結(jié)構(gòu)圖案上、下方不設(shè)置偽金屬結(jié)構(gòu)的圖案；在硅襯底上形成介質(zhì)層；利用光刻版為模版，經(jīng)光刻和刻蝕，在介質(zhì)層中形成互連層結(jié)構(gòu)，互連層結(jié)構(gòu)上、下方不具有偽金屬結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的方法，去除了偽金屬對激光束的阻礙，激光束可以直接照射到測試結(jié)構(gòu)上，儀器能夠接收到準確的反饋信號，從而提高了失效點定位準確率。