本發(fā)明屬于半導(dǎo)體金屬導(dǎo)線(xiàn)電子遷移測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種半導(dǎo)體EM測(cè)試中銅鉭形貌的獲得方法及其樣品的制備方法。測(cè)試樣品的制備方法包括步驟：1)預(yù)處理及減薄和減寬；2)FIB樣品制備。銅鉭形貌的獲得方法還包括步驟：3)第一次TEM觀(guān)察；4)去銅進(jìn)行第二次TEM觀(guān)測(cè)。通過(guò)本發(fā)明所提供的半導(dǎo)體EM測(cè)試樣品的制備方法，可以一次制備多個(gè)TEM樣品，并且不需要進(jìn)行樣品提取。而通過(guò)本發(fā)明所提供的半導(dǎo)體EM測(cè)試中銅鉭形貌的獲得方法，可以快速得到鉭元素分布圖以及銅形貌來(lái)更好地失效分析，從而解決直接用EDS或者EELS做鉭面掃描不但占用機(jī)臺(tái)大量的時(shí)間，而且長(zhǎng)時(shí)間掃描內(nèi)樣品可能會(huì)發(fā)生一定的漂移，因而無(wú)法真實(shí)反映其形貌的技術(shù)問(wèn)題。