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用于評估高反射率膜損耗穩(wěn)定性的測試方法

739 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 09:00:10

本發(fā)明屬于材料測試技術領域，具體涉及了一種用于評估高反射率膜損耗穩(wěn)定性的X射線輻照測試方法。本發(fā)明利用X射線的電荷積累效應，模擬高反膜因荷電積累的失效過程：采用的X射線源對高反膜表面進行荷電處理，在累積的處理過程中；同時利用光電子能譜儀原位監(jiān)測高反膜表面化學態(tài)的變化，間斷的進行XPS分析，檢測高反膜表面的各元素的化學態(tài)變化。通過對隨機選取的失效組樣品和非失效組樣品進行統(tǒng)計分析，并引入α和β參數(shù)描述O1s峰的對稱性，只用到了兩個擬合參數(shù)，就可以評估輻照荷電老化時的損耗變化，便于工程實際應用，是一種方便、快捷的判別方法。特別適合用于膜層材料工藝實驗的快速優(yōu)化、工藝監(jiān)控等環(huán)節(jié)。

聲明：

“用于評估高反射率膜損耗穩(wěn)定性的測試方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)