本發(fā)明公開(kāi)了一種離子注入機(jī)中通用可編程的離子束流驟變監(jiān)測(cè)及響應(yīng)系統(tǒng),涉及半導(dǎo)體裝備制造領(lǐng)域,尤其涉及離子注入機(jī)中對(duì)離子束流瞬態(tài)變化(Glitch)的監(jiān)測(cè)與響應(yīng)。此系統(tǒng)通過(guò)可編程的硬件架構(gòu),可快速準(zhǔn)確地捕捉Glitch的發(fā)生,還可與離子注入機(jī)中的劑量控制系統(tǒng)協(xié)同作業(yè),實(shí)現(xiàn)對(duì)Glitch做出微秒級(jí)別響應(yīng),以解決離子注入機(jī)中由于Glitch發(fā)生引起的工藝產(chǎn)品失效。
聲明:
“離子注入機(jī)中通用可編程的束流驟變監(jiān)測(cè)及響應(yīng)系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)