一種改進的真空鍍膜設備,包括真空腔室、設置于所述真空腔室內的鍍膜機構,所述真空腔室外連接有用于進行鍍膜過程的供氣機構和用于測量所述真空腔室內真空度的真空檢測機構,所述真空檢測機構包括真空計,所述真空計與所述真空腔室之間連通有檢測管,所述檢測管包括與所述真空腔室連通的水平段和一端與所述水平段連通而另一端與所述真空計連通的豎直段;所述水平段中部還設有濾塵通道,所述豎直段上還設有防塵裝置。本實用新型結構緊湊、使用方便,有效阻止所述真空腔室產(chǎn)生的揚塵通過管道滲入進所述真空計中,避免所述真空計誤判或失效,延長了所述真空計的使用壽命,降低運維成本,使設備正常運轉。
聲明:
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