本發(fā)明公開(kāi)了一種應(yīng)用于金屬蒸鍍裝置的鍍金盤(pán),包括基體,尤其的,在所述基體的一個(gè)表面上開(kāi)設(shè)有多個(gè)條狀的槽,所述多個(gè)槽具有兩種以上的槽深度尺寸,且槽的深度方向與所述基體的表面呈銳角。本發(fā)明的技術(shù)方法通過(guò)巧妙合理地設(shè)計(jì),在同一個(gè)鍍金盤(pán)上放置不同高度的樣品,同時(shí)達(dá)到截面與表面都鍍上金屬粒子的效果,提高了蒸鍍效率,對(duì)失效分析、結(jié)構(gòu)分析等提供了極大的幫助。
聲明:
“金屬蒸鍍裝置的鍍金盤(pán)” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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