1.本發(fā)明實施例涉及電子元器件制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置及其方法、張網(wǎng)設(shè)備。

背景技術(shù)：

2.在電子元器件的制備工藝中，金屬掩模作為圖形信息的載體，通過真空蒸鍍的方式，將圖形轉(zhuǎn)移到被蒸鍍產(chǎn)品上，從而形成具有相應(yīng)圖形形狀的電子元器件。

3.通常金屬掩模和被蒸鍍產(chǎn)品會由相應(yīng)的載體進(jìn)行固定，且載有金屬掩模和被蒸鍍產(chǎn)品的載體會發(fā)生相對運動，使得在將金屬掩模的圖形轉(zhuǎn)移至被蒸鍍產(chǎn)品時，能夠滿足一定的精度要求?，F(xiàn)有技術(shù)中金屬掩模會采用相應(yīng)的裝置進(jìn)行夾持拉伸，以對金屬掩模進(jìn)行張網(wǎng)。

4.但是，隨著集成度的提高，電子元器件制備工藝的精度要求越來越高，對金屬掩模進(jìn)行張網(wǎng)的精度要求越來越高，如何在確保金屬掩模具有較高張網(wǎng)精度的前提下，實現(xiàn)金屬掩模的自動化張網(wǎng)，成為當(dāng)前亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

5.針對上述存在問題，本發(fā)明實施例提供一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置及其方法、張網(wǎng)設(shè)備，以在確保金屬掩模具有較高張網(wǎng)精度的前提下，能夠?qū)崿F(xiàn)金屬掩模的自動化張網(wǎng)。

6.第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置，包括：多個夾持拉伸模塊和與多個所述夾持拉伸模塊一一對應(yīng)設(shè)置的多個第一運動機(jī)構(gòu)；

7.至少部分所述夾持拉伸模塊分布于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)相對的兩側(cè)；每個所述夾持拉伸模塊包括夾持單元、柔性單元、拉伸單元以及位移檢測單元；所述柔性單元設(shè)置于所述夾持單元與所述拉伸單元之間，且所述夾持單元、所述柔性單元和所述拉伸單元沿第一方向依次排列；所述拉伸單元設(shè)置于所述第一運動機(jī)構(gòu)上；所述第一運動機(jī)構(gòu)帶動所述拉伸單元沿所述第一方向和/或第二方向運動，所述拉伸單元拉伸所述柔性單元，以使所述柔性單元發(fā)生形變，并帶動所述夾持單元在所述第一方向和/或所述第二方向上發(fā)生位移；其中，所述第一方向與所述第二方向交叉；

8.所述夾持單元用于夾持并固定位于所述金屬掩模張網(wǎng)區(qū)的金屬掩模；

9.所述位移檢測單元用于檢測對應(yīng)的所述拉伸單元的位移信息；

10.其中，各所述第一運動機(jī)構(gòu)的運動狀態(tài)相互獨立，以及同一所述第一運動機(jī)構(gòu)在所述第一方向上的運動狀態(tài)與其在所述第二方向上的運動狀態(tài)相互獨立。

11.第二方面，本發(fā)明實施例還提供了一種金屬掩模的張網(wǎng)方法，采用金屬掩模的張網(wǎng)裝置執(zhí)行，所述金屬掩模的張網(wǎng)裝置包括多個拉伸單元，所述金屬掩模包括預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記、多個tp標(biāo)記和多個像素標(biāo)記，所述多個像素標(biāo)記中包括至少一個第一像素標(biāo)記，該金屬掩模的張網(wǎng)方法包括：

12.當(dāng)所述金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差

范圍內(nèi)、所述tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各所述像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，基于所述拉伸單元的位移量與所述第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，求解所述金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣；

13.當(dāng)所述金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、所述tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各所述像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，獲取所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各所述第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)；

14.根據(jù)所述線性張網(wǎng)矩陣、以及各所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地確定各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量；

15.根據(jù)各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量和各所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地控制各所述拉伸單元由所述拉伸單元的當(dāng)前位置移動至所述拉伸單元的目標(biāo)位置。

16.第三方面，本發(fā)明實施例還提供一種張網(wǎng)設(shè)備，包括：控制器和上述金屬掩模的張網(wǎng)裝置；

17.所述控制器用于上述金屬掩模的張網(wǎng)方法。

18.本發(fā)明實施例提供的金屬掩模的張網(wǎng)裝置及其方法、張網(wǎng)設(shè)備，通過一一對應(yīng)地設(shè)置于各夾持拉伸模塊對應(yīng)的第一運動機(jī)構(gòu)，采用位置檢測單元檢測各拉伸單元的位移信息，以根據(jù)各拉伸單元的位置信息，由各第一運動機(jī)構(gòu)一一對應(yīng)且相互獨立地控制各夾持拉伸模塊中拉伸單元的運動狀態(tài)，使得各夾持單元夾持的金屬掩模進(jìn)行張網(wǎng)，從而能夠準(zhǔn)確地控制各夾持拉伸模塊中拉伸單元的運動狀態(tài)，使得各夾持單元夾持的金屬掩模能夠運動至準(zhǔn)確的位置，并在相應(yīng)的位置處進(jìn)行準(zhǔn)確地；同時，基于該金屬掩模的張網(wǎng)裝置，能夠確能夠?qū)崿F(xiàn)金屬掩模的自動化張網(wǎng)，確保金屬掩模具有較高張網(wǎng)精度，從而有利于提高蒸鍍位置準(zhǔn)確度，滿足具有高集成度的電子元器件的制備需求。

附圖說明

19.圖1是本發(fā)明實施例提供的一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

20.圖2是本發(fā)明實施例提供的另一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

21.圖3是本發(fā)明實施例提供的另一種金屬掩模的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

22.圖4是本發(fā)明實施例提供的一種金屬掩模的張網(wǎng)方法的流程圖；

23.圖5是本發(fā)明實施例提供的一種求解金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣的方法的流程圖；

24.圖6是本發(fā)明實施例提供的一種確定拉伸單元的目標(biāo)位移量的方法的流程圖；

25.圖7是本發(fā)明實施例提供的另一種金屬掩模的張網(wǎng)方法的流程圖。

具體實施方式

26.下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明?？梢岳斫獾氖?，此處所描述的具體實施例僅僅用于解釋本發(fā)明，而非對本發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。

27.本發(fā)明實施例提供了一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置，該金屬掩模的張網(wǎng)裝置能夠?qū)?br />
屬掩模進(jìn)行拉伸，使得金屬掩模處于張網(wǎng)狀態(tài)。圖1是本發(fā)明實施例提供的一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，該金屬掩模的張網(wǎng)裝置包括多個夾持拉伸模塊10和與多個夾持拉伸模塊10一一對應(yīng)設(shè)置的多個第一運動機(jī)構(gòu)20；其中，至少部分夾持拉伸模塊10分布于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)相對的兩側(cè)；該金屬掩模張網(wǎng)區(qū)即為放置金屬掩模200的區(qū)域。每個夾持拉伸模塊10包括夾持單元11、柔性單元12、拉伸單元13以及位移檢測單元14；其中，夾持單元11用于夾持并固定位于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)的金屬掩模200；位移檢測單元14用于檢測對應(yīng)的拉伸單元13的位移信息；柔性單元12設(shè)置于夾持單元11與拉伸單元13之間，且夾持單元11、柔性單元12和拉伸單元13沿第一方向x依次排列；拉伸單元13設(shè)置于第一運動機(jī)構(gòu)20上；第一運動機(jī)構(gòu)20帶動拉伸單元13沿第一方向x和/或第二方向y運動，拉伸單元13拉伸柔性單元12，以使柔性單元12發(fā)生形變，并帶動夾持單元11在第一方向x和/或第二方向y上發(fā)生位移，而由夾持單元11進(jìn)行夾持固定的金屬掩模200會隨之發(fā)生形變，實現(xiàn)對金屬掩模200的張網(wǎng)；此處所述的第一方向x與第二方向y交叉。

28.示例性的，如圖1所示，金屬掩模的張網(wǎng)裝置可以包括四個掩模夾持模塊10，該四個掩模夾持模塊10兩兩相對設(shè)置于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)，此時可對應(yīng)設(shè)置有四個第一運動機(jī)構(gòu)20；各掩模夾持模塊10的夾持單元11分別用于夾持和固定金屬掩模200的四個角；各第一運動機(jī)構(gòu)20可帶動對應(yīng)的掩模檢測模塊10的拉伸單元13沿第一方向和/或第二方向運動，使得各拉伸單元13具有相對獨立的運動方式，即其中一個拉伸單元13沿第一方向x運動時，其它拉伸單元13的運動方向可以是第一方向x或第二方向y；如此，各第一運動機(jī)構(gòu)20的運動狀態(tài)相互獨立，以及同一第一運動機(jī)構(gòu)20在第一方向x上的運動狀態(tài)與其在第二方向y上的運動狀態(tài)相互獨立，使得各拉伸單元13的運動方向相互獨立，且每個拉伸單元13在第一方向x運動的情況與其在第二方向y上的運動情況相互獨立，從而能夠靈活控制各拉伸單元13的運動方向，有利于高效、準(zhǔn)確地控制金屬掩模20的位置和張網(wǎng)過程。同時，采用位置檢測模塊14對拉伸單元13的位移信息進(jìn)行實時檢測，以根據(jù)所檢測的位移信息，控制拉伸單元13的運動方向和運動位置。

29.需要說明的是，圖1僅為本發(fā)明實施例示例性的附圖，圖1僅示例性的示出了金屬掩模的張網(wǎng)裝置包括四個夾持拉伸模塊10；而在本發(fā)明實施例中，金屬掩模的張網(wǎng)裝置中夾持拉伸模塊10的數(shù)量不限于此，其可根據(jù)實際需要進(jìn)行設(shè)置，本發(fā)明實施例對此不做具體限定。為便于描述，本發(fā)明實施例均以夾持拉伸模塊的數(shù)量為4為例，對本發(fā)明實施例進(jìn)行示例性的說明。

30.可選的，繼續(xù)參考圖1，位移檢測單元14可以包括位移傳感器；該位移傳感器固定于拉伸單元13上；如此，通過位移檢測單元14可直接獲取拉伸單元13的位移信息，以根據(jù)該位移信息控制拉伸單元13的位移狀態(tài)和位移方向。

31.和/或，位移檢測單元14還可以包括位移檢測標(biāo)記；同樣的，該位移檢測標(biāo)記設(shè)置于拉伸單元13上；此時，可結(jié)合高倍鏡組采集位移檢測標(biāo)記的圖像，以確定該位移標(biāo)記的位置，并根據(jù)該位移標(biāo)記的位置能夠進(jìn)一步確定拉伸單元13的位移信息，以根據(jù)該位移信息控制拉伸單元13的位移狀態(tài)和位移方向。

32.可選的，圖2是本發(fā)明實施例提供的另一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，柔性單元12可以包括可伸縮彈性件，該可伸縮彈性件例如可以為彈簧。其中，可伸縮彈性件可以通過焊接的方式分別與拉伸單元13和夾持單元11固定連接；或者，可伸縮彈

性件也可以與拉伸單元13和夾持單元11可拆卸連接，以能夠根據(jù)需要更換不同的可伸縮彈性件，便于對金屬掩模的張網(wǎng)裝置的維護(hù)。

33.可選的，繼續(xù)參考圖2所示，金屬掩模的張網(wǎng)裝置還包括多個第二運動機(jī)構(gòu)30；其中，位于同一側(cè)的各夾持拉伸模塊10設(shè)置于同一第二運動機(jī)構(gòu)30上；第二運動機(jī)構(gòu)30帶動夾持拉伸模塊10沿第二方向y運動，以使各夾持拉伸模塊10在第二方向y上發(fā)生位移。

34.如此，通過第二運動機(jī)構(gòu)30帶動對應(yīng)的夾持拉伸模塊10沿第二方向運動，以使夾持拉伸模塊10的夾持單元11所夾持的金屬掩模200能夠隨之運動，以調(diào)節(jié)金屬掩模200與待掩模的半導(dǎo)體晶片之間的相對位置，從而能夠?qū)ο鄳?yīng)半導(dǎo)體晶片的對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行掩模。

35.可選的，繼續(xù)參考圖2，金屬掩模的張網(wǎng)裝置中還包括與各第二運動機(jī)構(gòu)30一一對應(yīng)設(shè)置的位置檢測模塊(圖中未示出)；該位置檢測模塊能夠檢測對應(yīng)的第二運動機(jī)構(gòu)30的位置信息，以根據(jù)第二運動機(jī)構(gòu)的位置信息，確定所夾持的金屬掩模200的當(dāng)前位置，從而控制第二運動機(jī)構(gòu)30的運動狀態(tài)，使得金屬掩模200能夠運動至相應(yīng)的位置。其中，位置檢測模塊可以包括但不限于光柵尺或干涉儀。

36.基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供一種金屬掩模的張網(wǎng)方法，該金屬掩模的張網(wǎng)方法采用本發(fā)明實施例提供的金屬掩模的張網(wǎng)裝置執(zhí)行，能夠?qū)饘傺谀＿M(jìn)行自動化張網(wǎng)。如圖3所示，金屬掩模200可以包括預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記210、多個tp標(biāo)記220和多個像素標(biāo)記230，多個像素標(biāo)記230中包括至少一個第一像素標(biāo)記231；如此，可通過金屬掩模200上的各個標(biāo)記(210、220和230)確定金屬掩模200的當(dāng)前位置以及金屬掩模200所承載的圖形轉(zhuǎn)移至被蒸鍍產(chǎn)品上的位置。

37.相應(yīng)的，圖4是本發(fā)明實施例提供的一種金屬掩模的張網(wǎng)方法的流程圖，如圖4所示，該金屬掩模的張網(wǎng)方法包括：

38.s110、當(dāng)金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，基于拉伸單元的位移量與第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，求解金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣。

39.其中，結(jié)合圖1和圖3所示，金屬掩模200的z軸方向即為垂直于金屬掩模200所在平面(x軸與y軸構(gòu)成的平面)的方向，z軸的旋轉(zhuǎn)方向即為繞z軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的各個方向；相應(yīng)的，金屬掩模200在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度即為金屬掩模200的在z軸旋轉(zhuǎn)方向上的扭轉(zhuǎn)角度，此處所涉及的預(yù)設(shè)角度可以為0rad，以使金屬掩模200能夠所在平面能夠與x軸和y軸構(gòu)成的平面相平行，即通常要求金屬掩模200在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度越小，金屬掩模200的位置精度越高，此時第一預(yù)設(shè)角度偏差即為金屬掩模200在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度，該第一預(yù)設(shè)角度偏差例如可以為1urad。

40.相應(yīng)的，通過金屬掩模200中tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差可以對金屬掩模200的tp(total pitch)精度進(jìn)行確認(rèn)，通常會將金屬掩模200中tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差設(shè)置為較小的偏差值，即第一預(yù)設(shè)偏差范圍為一較小數(shù)值范圍，示例性的第一預(yù)設(shè)偏差范圍可以為小于或等于10μm的范圍；同時，金屬掩模200中各像素標(biāo)記230的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差也應(yīng)在較小的偏差范圍內(nèi)，以確保采用該金屬掩模200制備的電子元器件的圖形具有較高的精度，即第二預(yù)設(shè)偏差范圍可以為小于或等于20μm的范圍。

41.具體的，當(dāng)采用高倍鏡組等將金屬掩模200進(jìn)行對準(zhǔn)后，該金屬掩模200中的預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記、tp標(biāo)記以及像素標(biāo)記均與其對應(yīng)的目標(biāo)位置之間具有較小的偏差，但對于高集成度和高精度要求的金屬掩模，該偏差仍無法滿足其精度要求；此時，需要進(jìn)一步對金屬掩模的張網(wǎng)裝置中的拉伸單元13的位置進(jìn)行調(diào)節(jié)，以達(dá)到更高的精度要求。金屬掩模200包括多個像素標(biāo)記230，若對多個像素標(biāo)記230的位置坐標(biāo)均進(jìn)行檢測，則耗時較長；因此，可在多個像素標(biāo)記230中選取至少一個第一像素標(biāo)記231，即第一像素標(biāo)記231可以為一個或多個；當(dāng)?shù)谝幌袼貥?biāo)記231為多個時，各第一像素標(biāo)記231可均勻分布于金屬掩模200中，以使各第一像素標(biāo)記231的位置坐標(biāo)能夠表示金屬掩模200的各個位置。通過在金屬掩模200對準(zhǔn)后，根據(jù)拉伸單元13的位移量與第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，該對應(yīng)關(guān)系可以為線性的對應(yīng)關(guān)系，即拉伸單元13的位移量與第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏差呈正相關(guān)的線性關(guān)系，此時可確定出各拉伸單元13的位移量與第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏差之間的線性系數(shù)，并將該線性系數(shù)以矩陣形式進(jìn)行表現(xiàn)，該矩陣極為金屬掩模200的線性張網(wǎng)矩陣。

42.其中，金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣可以在線求解或離線求解；在線求解即為在每次采用金屬掩模進(jìn)行張網(wǎng)前，求解該金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣；離線求解為對金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣進(jìn)行求解后，存儲至金屬掩模的張網(wǎng)裝置的控制器中，以在后續(xù)采用該金屬掩模進(jìn)行張網(wǎng)時，可調(diào)用該金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣；由于各金屬掩模的結(jié)構(gòu)和標(biāo)記位置具有差異，因此每個金屬掩?？蓪?yīng)一個信息張網(wǎng)矩陣，以確保每個金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣，能夠保證其對應(yīng)的金屬掩模的蒸鍍位置精度。

43.s120、當(dāng)金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，獲取第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)。

44.具體的，結(jié)合圖1和圖3所示，當(dāng)獲知金屬掩模200的線性張網(wǎng)矩陣后，可在金屬掩模處于對準(zhǔn)狀態(tài)時，可采用高倍鏡組獲取各第一像素標(biāo)記231的當(dāng)前位置坐標(biāo)，以及通過各拉伸單元13上設(shè)置的位置檢測單元14一一對應(yīng)地獲取各拉伸單元13的當(dāng)前位置坐標(biāo)。

45.s130、根據(jù)線性張網(wǎng)矩陣、以及各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地確定各拉伸單元的目標(biāo)位移量。

46.s140、根據(jù)各拉伸單元的目標(biāo)位移量和各拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地控制各拉伸單元由拉伸單元的當(dāng)前位置移動至拉伸單元的目標(biāo)位置。

47.具體的，繼續(xù)結(jié)合圖1和圖3所示，由于各第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏差與各拉伸單元13的位置具有線性關(guān)系，因此可采用對應(yīng)的金屬掩模200的線性張網(wǎng)矩陣和各第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏置確定出各拉伸單元13還需要運動的位移量，即各拉伸單元13的目標(biāo)位移量；并在獲知各拉伸單元13的目標(biāo)位移量后，可控制各拉伸單元13從當(dāng)前位置坐標(biāo)運動目標(biāo)位移量后運動至目標(biāo)位置坐標(biāo)，實現(xiàn)對各拉伸單元13的運動狀態(tài)的控制，以使得拉伸單元13能夠拉伸柔性單元13發(fā)生形變，并由柔性單元13帶動夾持單元11進(jìn)行運動，從而對夾持單元11所夾持的金屬掩模200進(jìn)行張網(wǎng)，使得張網(wǎng)后的金屬掩模200中各第一像素標(biāo)記231的像素標(biāo)記位置偏差能夠進(jìn)一步縮小，進(jìn)而提高張網(wǎng)準(zhǔn)確度，有利于提高蒸鍍位置精度，滿足高集成度的電子元器件的精度要求。

48.可選的，金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣的求解方式可以為在線或離線的方式，無論何種求解方式，其均為拉伸單元的位移量與所述第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的線性關(guān)系矩陣。圖5是本發(fā)明實施例提供的一種求解金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣的方法的流程圖，如圖5所示，該求解線性張網(wǎng)矩陣的方法包括：

49.s111、記錄各拉伸單元在預(yù)設(shè)方向上的初始位置坐標(biāo)、以及各第一像素標(biāo)記的初始位置坐標(biāo)。

50.具體的，繼續(xù)結(jié)合參考圖1和圖3，在金屬掩模200處于對準(zhǔn)狀態(tài)時，其中各標(biāo)記(預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記210、tp標(biāo)記220和像素標(biāo)記230)均與其目標(biāo)位置的偏差在一定的偏差范圍內(nèi)，此時可將其金屬掩模200和拉伸單元13的位置狀態(tài)作為基礎(chǔ)位置狀態(tài)；在該基礎(chǔ)位置狀態(tài)時，采用高倍鏡組記錄各第一像素標(biāo)記231的初始位置坐標(biāo)(xp0i，yp0i)，i為正整數(shù)，且1≤i≤n，n為金屬掩模中第一像素標(biāo)記231的數(shù)量；采用與各拉伸單元13對應(yīng)的位置檢測單元14獲取各拉伸單元13在第一方向x上的初始位置坐標(biāo)，并對各拉伸單元13在預(yù)設(shè)方向上的初始位置坐標(biāo)進(jìn)行記錄。其中，預(yù)設(shè)方向可以為第一方向x或第二方向y，在能夠求解金屬掩模200的線性張網(wǎng)矩陣的前提下，本發(fā)明適時適量對預(yù)設(shè)方向不做具體限定。

51.s112、控制一個拉伸單元在預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量，并記錄當(dāng)前各第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)。

52.s113、重復(fù)執(zhí)行s112的步驟，直至所有拉伸單元均在預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量。

53.s114、根據(jù)各拉伸單元每次在預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生的預(yù)設(shè)位移量以及每次記錄的各第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)，建立關(guān)于線性張網(wǎng)矩陣的線性矩陣等式。

54.s115、根據(jù)線性矩陣等式求解線性張網(wǎng)矩陣。

55.具體的，線性矩陣等式為δp＝aδx，其中，δp為第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)相對于其初始位置坐標(biāo)的增量矩陣，a為述線性張網(wǎng)矩陣，δx為各拉伸單元在預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生的預(yù)設(shè)位移量的矩陣。

56.示例性的，結(jié)合參考圖1和圖3，以預(yù)設(shè)方向為第一方向x，金屬掩模的張網(wǎng)裝置中包括四個夾持拉伸模塊10為例。相對于上述基礎(chǔ)狀態(tài)，可先控制夾持金屬掩模200左上角的夾持拉伸模塊10的拉伸單元13在第一方向x上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量位δx1，其它夾持拉伸模塊10的拉伸單元13保持不動，此時夾持拉伸模塊10和金屬掩模200的狀態(tài)稱為增量拉伸狀態(tài)，記錄當(dāng)前各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)，各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)記為(xp1i，yp1i)；相對于上述增量拉伸狀態(tài)，可再次控制夾持金屬掩模200左下角的夾持拉伸模塊10的拉伸單元13在第一方向x上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量位δx2，其它夾持拉伸模塊10的拉伸單元13保持不動，此時夾持拉伸模塊10和金屬掩模200的狀態(tài)稱為又一增量拉伸狀態(tài)，記錄當(dāng)前各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)，各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)記為(xp2i，yp2i)；相對于又一增量拉伸狀態(tài)，可再次控制夾持金屬掩模200右上角的夾持拉伸模塊10的拉伸單元13在第一方向x上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量位δx3，其它夾持拉伸模塊10的拉伸單元13保持不動，此時夾持拉伸模塊10和金屬掩模200的狀態(tài)稱為另一增量拉伸狀態(tài)，記錄當(dāng)前各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)，各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)記為(xp3i，yp3i)；最后，相對于另一增量拉伸狀態(tài)，可再次控制夾持金屬掩模200右下角的夾持拉伸模塊10的拉伸單元13在第一方向x上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量位δx4，其它夾持拉伸模塊10的拉伸單元13保持不動，此時夾持拉伸模塊10和金屬掩模200的狀態(tài)稱為再一增量拉伸狀態(tài)，記錄當(dāng)前各第

一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)，各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)記為(xp4i，yp4i)。如此，若在各拉伸單元13均在第一方向x上均方向位移時，記錄各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)的次數(shù)應(yīng)大于或等于金屬掩模的張網(wǎng)裝置中夾持拉伸模塊10的數(shù)量。

57.在獲取各拉伸單元13移動預(yù)設(shè)位移量后，可相應(yīng)的獲取到各拉伸單元13在預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生的預(yù)設(shè)位移量的矩陣δx：

[0058][0059]

同樣的，可根據(jù)每次記錄的各第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)，可獲得第一像素標(biāo)記231的位移位置坐標(biāo)相對于其初始位置坐標(biāo)的增量矩陣δp，該增量矩陣δp可以包括第一方向x上的增量矩陣δpx和第二方向y上的增量矩陣δpy：

[0060]

δpx＝[δxp1i δxp2i δxp3i δxp3i]

[0061]

＝[xp1i xp2i xp3i xp3i]-[xp0i xp0i xp0i xp0i]

[0062]

δpy＝[δyp1i δyp2i δyp3i δyp3i]

[0063]

＝[yp1i yp2i yp3i yp3i]-[yp0i yp0i yp0i yp0i]

[0064]

基于最小二乘擬合4個夾持拉伸模塊10的拉伸單元11與各第一像素標(biāo)記231的一階線性系數(shù)關(guān)系，該一階線性系數(shù)所構(gòu)成的矩陣極為線性張網(wǎng)矩陣a，由此可知：

[0065]

在第一方向x上：δpx＝axδx

[0066]

在第一方向x上：δpy＝ayδx

[0067]

由此，可分別求解處在第一方向x上的第一線性張網(wǎng)矩陣ax以及在第二方向y上的第二線性張網(wǎng)矩陣ay，從而在對金屬掩模200進(jìn)行精確張網(wǎng)時，可通過第一線性張網(wǎng)矩陣ax和第二線性張網(wǎng)矩陣ay確定與各拉伸單元13的目標(biāo)位移量。

[0068]

可選的，在上述實施例的基礎(chǔ)上，圖6是本發(fā)明實施例提供的一種確定拉伸單元的目標(biāo)位移量的方法的流程圖，如圖6所示，該確定拉伸單元的目標(biāo)位移量的方法包括：

[0069]

s131、根據(jù)各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，求解第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp

′

。

[0070]

其中，δp

′

＝p1-p2，p1為各第一像素標(biāo)記的目標(biāo)位置坐標(biāo)矩陣，p2為各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)矩陣。

[0071]

s 132、根據(jù)各所述像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp

′

和所述線性張網(wǎng)矩陣a，基于所述線性矩陣等式，求解各所述拉伸單元在所述第一方向上的目標(biāo)位移量矩陣δx

′

。

[0072]

s133、根據(jù)所述目標(biāo)位移量矩陣δx

′

，一一對應(yīng)地確定各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量。

[0073]

具體的，由第一像素標(biāo)記的目標(biāo)位置坐標(biāo)(xp1i

′

，yp1i

′

)以及該第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)(xp2i

′

，yp2i

′

)，可獲知該第一像素標(biāo)記的坐標(biāo)位置偏差，即可獲知該第一像素標(biāo)記在第一方向上的坐標(biāo)位置偏差δxpi＝xp1i

′?

xp2i

′

，以及獲知該第一像素標(biāo)記在第二方向上的坐標(biāo)位置偏差δypi＝y(tǒng)p1i

′?

yp2i

′

；此時，各第一像素標(biāo)記在第一方向上的目標(biāo)位置可構(gòu)建第一方向上的目標(biāo)位置矩陣p1x，各第一像素標(biāo)記在第二方向上的目標(biāo)位置可構(gòu)建第二方向上的目標(biāo)位置矩陣p1y，各第一像素標(biāo)記在第一方向上的當(dāng)前位置可構(gòu)建

第一方向上的目標(biāo)位置矩陣p2x，各第一像素標(biāo)記在第二方向上的當(dāng)前位置可構(gòu)建第二方向上的目標(biāo)位置矩陣p2y；第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp

′

可以包括第一像素標(biāo)記在第一方向上的第一位置偏差矩陣δpx和第一像素標(biāo)記在第二方向上的第二位置偏差矩陣δpy，其中：

[0074][0075][0076]

相應(yīng)的，線性張網(wǎng)矩陣a可以包括在第一方向上的第一線性張網(wǎng)矩陣ax和在第二方向上的第二線性張網(wǎng)矩陣ay；如此，可以分別構(gòu)建在第一方向上的第一線性矩陣等式：

[0077]

δpx

′

＝axδx

′

[0078]

以及構(gòu)建在第一方向上的第二線性矩陣等式：

[0079]

δpy

′

＝ayδx

′

[0080]

如此，可根據(jù)上述第一線性矩陣等式和第二線性矩陣等式即可求解出各拉伸單元的目標(biāo)位移量矩陣δx

′

；由此，可以根據(jù)目標(biāo)位移量矩陣δx

′

中數(shù)值確定出各拉伸單元的目標(biāo)位移量，從而根據(jù)各拉伸單元的目標(biāo)位移量，一一對應(yīng)地控制各拉伸單元的位移狀態(tài)。

[0081]

可選的，當(dāng)將金屬掩模夾持固定于各所述夾持單元時，在求解線性張網(wǎng)矩陣和獲取第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及所拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)之前，還應(yīng)控制各拉伸單元一一對應(yīng)地帶動各柔性單元和各夾持單元在第一方向和/或第二方向上發(fā)生位移，以對金屬掩模施加初始力，并基于預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記對金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)、以及基于tp標(biāo)記對所述金屬掩模進(jìn)行粗-精對準(zhǔn)，以使金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)。

[0082]

可選的，在基于各拉伸單元的目標(biāo)位移量控制各拉伸單元運動后，獲取各第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)，并根據(jù)各第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)，確定金屬掩模的當(dāng)前位置精度。相應(yīng)的，圖7是本發(fā)明實施例提供的另一種金屬掩模的張網(wǎng)方法的流程圖，如圖7所示，該金屬掩模的張網(wǎng)方法包括：

[0083]

s210、當(dāng)金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，基于拉伸單元的位移量與第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，求解金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣。

[0084]

s220、當(dāng)金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏

差范圍內(nèi)、tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，獲取第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)。

[0085]

s230、根據(jù)線性張網(wǎng)矩陣、以及各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地確定各拉伸單元的目標(biāo)位移量。

[0086]

s240、根據(jù)各拉伸單元的目標(biāo)位移量和各拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地控制各拉伸單元由拉伸單元的當(dāng)前位置移動至拉伸單元的目標(biāo)位置。

[0087]

s250、獲取各拉伸單元移動后的各第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)。

[0088]

s260、判斷各第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差是否在第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)；若否，則返回s220；若是，則執(zhí)行s270。

[0089]

s270、基于所述金屬掩模對待蒸鍍產(chǎn)品進(jìn)行蒸鍍。

[0090]

具體的，在控制各拉伸單元根據(jù)各自的目標(biāo)位移量進(jìn)行移動后，各第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間仍會存在一定的位置偏差，通過獲取各第一像素的移動位置坐標(biāo)，可以獲知各第一像素的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差，該位置偏差應(yīng)在第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)，以確保金屬掩模能夠具有較高的張網(wǎng)精度；而當(dāng)各第一像素的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差未在第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，可重新獲取各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)，并基于各第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和線性張網(wǎng)矩陣，確定出各拉伸單元的目標(biāo)位移量，并根據(jù)此次確定的各拉伸單元的目標(biāo)位移量，控制各拉伸單元的位移狀態(tài)，直至各第一像素的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差在第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，認(rèn)為金屬掩模能夠具有較高的張網(wǎng)精度，采用該金屬掩模對待蒸鍍產(chǎn)品進(jìn)行蒸鍍，以制備出具有較高的集成度和圖案準(zhǔn)確度的電子元器件。

[0091]

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供一種張網(wǎng)設(shè)備，該張網(wǎng)設(shè)備包括控制器和本發(fā)明實施例提供的金屬掩模的張網(wǎng)裝置；該控制器用于執(zhí)行本發(fā)明實施例提供的金屬掩模的張網(wǎng)方法。因此，該張網(wǎng)設(shè)備具備本發(fā)明實施例提供的金屬掩模的張網(wǎng)裝置和金屬掩模的張網(wǎng)方法的技術(shù)特征和有益效果，相同之處，可參照上述對本發(fā)明實施例的金屬掩模的張網(wǎng)裝置和金屬掩模的張網(wǎng)方法的描述，在此不再贅述。

[0092]

注意，上述僅為本發(fā)明的較佳實施例及所運用技術(shù)原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員會理解，本發(fā)明不限于這里所述的特定實施例，對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說能夠進(jìn)行各種明顯的變化、重新調(diào)整、相互結(jié)合和替代而不會脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，雖然通過以上實施例對本發(fā)明進(jìn)行了較為詳細(xì)的說明，但是本發(fā)明不僅僅限于以上實施例，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實施例，而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求范圍決定。技術(shù)特征：

1.一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，包括：多個夾持拉伸模塊和與多個所述夾持拉伸模塊一一對應(yīng)設(shè)置的多個第一運動機(jī)構(gòu)；至少部分所述夾持拉伸模塊分布于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)相對的兩側(cè)；每個所述夾持拉伸模塊包括夾持單元、柔性單元、拉伸單元以及位移檢測單元；所述柔性單元設(shè)置于所述夾持單元與所述拉伸單元之間，且所述夾持單元、所述柔性單元和所述拉伸單元沿第一方向依次排列；所述拉伸單元設(shè)置于所述第一運動機(jī)構(gòu)上；所述第一運動機(jī)構(gòu)帶動所述拉伸單元沿所述第一方向和/或第二方向運動，所述拉伸單元拉伸所述柔性單元，以使所述柔性單元發(fā)生形變，并帶動所述夾持單元在所述第一方向和/或所述第二方向上發(fā)生位移；其中，所述第一方向與所述第二方向交叉；所述夾持單元用于夾持并固定位于所述金屬掩模張網(wǎng)區(qū)的金屬掩模；所述位移檢測單元用于檢測對應(yīng)的所述拉伸單元的位移信息；其中，各所述第一運動機(jī)構(gòu)的運動狀態(tài)相互獨立，以及同一所述第一運動機(jī)構(gòu)在所述第一方向上的運動狀態(tài)與其在所述第二方向上的運動狀態(tài)相互獨立。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，所述位移檢測單元包括位移傳感器；所述位移傳感器固定于所述拉伸單元上；和/或，所述位移檢測單元包括位移檢測標(biāo)記；所述位移檢測標(biāo)記設(shè)置于所述拉伸單元上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，所述柔性單元包括可伸縮彈性件。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，還包括：多個第二運動機(jī)構(gòu)；位于同一側(cè)的各所述夾持拉伸模塊設(shè)置于同一所述第二運動機(jī)構(gòu)上；所述第二運動機(jī)構(gòu)帶動所述夾持拉伸模塊沿所述第二方向運動，以使各所述夾持拉伸模塊在所述第二方向上發(fā)生位移。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，還包括：與各所述第二運動機(jī)構(gòu)一一對應(yīng)設(shè)置的位置檢測模塊；所述位置檢測模塊用于檢測對應(yīng)的所述第二運動機(jī)構(gòu)的位置信息。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置，其特征在于，所述位置檢測模塊包括光柵尺或干涉儀。7.一種金屬掩模的張網(wǎng)方法，采用金屬掩模的張網(wǎng)裝置執(zhí)行，所述金屬掩模的張網(wǎng)裝置包括多個拉伸單元，所述金屬掩模包括預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記、多個tp標(biāo)記和多個像素標(biāo)記，所述多個像素標(biāo)記中包括至少一個第一像素標(biāo)記，其特征在于，包括：當(dāng)所述金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、所述tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各所述像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，基于所述拉伸單元的位移量與所述第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，求解所述金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣；當(dāng)所述金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向的角度與預(yù)設(shè)角度的差異在第一預(yù)設(shè)角度偏差范圍內(nèi)、所述tp標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第一預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)、以及各所述

像素標(biāo)記的當(dāng)前位置與其目標(biāo)位置之間的偏差在第二預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)時，獲取所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各所述第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)；根據(jù)所述線性張網(wǎng)矩陣、以及各所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地確定各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量；根據(jù)各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量和各所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地控制各所述拉伸單元由所述拉伸單元的當(dāng)前位置移動至所述拉伸單元的目標(biāo)位置。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，基于所述拉伸單元的位移量與所述第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差的對應(yīng)關(guān)系，求解所述金屬掩模的線性張網(wǎng)矩陣，包括：記錄各所述拉伸單元在預(yù)設(shè)方向上的初始位置坐標(biāo)、以及各所述第一像素標(biāo)記的初始位置坐標(biāo)；其中，預(yù)設(shè)方向為所述第一方向或所述第二方向；控制一個所述拉伸單元在所述預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量，并記錄當(dāng)前各所述第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)；重復(fù)執(zhí)行控制一個所述拉伸單元在所述預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量，并記錄當(dāng)前各所述第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)的步驟，直至所有所述拉伸單元均在所述預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生預(yù)設(shè)位移量；根據(jù)各所述拉伸單元每次在所述預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生的預(yù)設(shè)位移量以及每次記錄的各所述第一像素標(biāo)記的位移位置坐標(biāo)，建立關(guān)于所述線性張網(wǎng)矩陣的線性矩陣等式；所述線性矩陣等式為δp＝aδx，其中，δp為所述第一像素標(biāo)記的所述位移位置坐標(biāo)相對于其初始位置坐標(biāo)的增量矩陣，a為所述述線性張網(wǎng)矩陣，δx為各所述拉伸單元在所述預(yù)設(shè)方向上產(chǎn)生的預(yù)設(shè)位移量的矩陣；根據(jù)所述線性矩陣等式求解所述線性張網(wǎng)矩陣。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，根據(jù)所述線性張網(wǎng)矩陣和所述當(dāng)前像素標(biāo)記位置偏差，一一對應(yīng)地確定各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量，包括：根據(jù)各所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)和目標(biāo)位置坐標(biāo)，求解所述第一像素標(biāo)記的像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp'；其中，δp'＝p1-p2，p1為各所述第一像素標(biāo)記的目標(biāo)位置坐標(biāo)矩陣，p2為各所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)矩陣；根據(jù)各所述像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp'和所述線性張網(wǎng)矩陣a，基于所述線性矩陣等式，求解各所述拉伸單元在所述預(yù)設(shè)方向上的目標(biāo)位移量矩陣δx'；根據(jù)所述目標(biāo)位移量矩陣δx'，一一對應(yīng)地確定各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，根據(jù)各所述像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp'和所述線性張網(wǎng)矩陣a，基于所述線性矩陣等式，求解所述拉伸單元在所述第一方向上的目標(biāo)位移量矩陣δx'，包括：根據(jù)各所述像素標(biāo)記位置偏差矩陣δp'，分別構(gòu)建各所述第一像素標(biāo)記在所述第一方向上的第一位置偏差矩陣δpx'和各所述第一像素標(biāo)記在所述第二方向上的第二位置偏差矩陣δpy'；根據(jù)所述線性張網(wǎng)矩陣a，分別構(gòu)建在所述第一方向上的第一線性張網(wǎng)矩陣ax和在所述第二方向上的第二線性張網(wǎng)矩陣ay；

基于所述第一位置偏差矩陣δpx'和所述第一線性張網(wǎng)矩陣ax構(gòu)建第一線性矩陣等式：δpx'＝axδx'，以及基于所述第二位置偏差矩陣δpy'和所述第一線性張網(wǎng)矩陣ay構(gòu)建第二線性矩陣等式：δpy'＝ayδx'；根據(jù)所述第一線性矩陣等式和所述第二線性矩陣等式，求解所述拉伸單元在所述預(yù)設(shè)方向上的目標(biāo)位移量矩陣。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，在根據(jù)各所述拉伸單元的目標(biāo)位移量和各所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)，一一對應(yīng)地控制各所述拉伸單元由所述拉伸單元的當(dāng)前位置移動至所述拉伸單元的目標(biāo)位置之后，還包括：獲取各所述拉伸單元移動后的各所述第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)；判斷各所述第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差是否在第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)；若否，則返回執(zhí)行獲取所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各所述第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)的步驟，直至各所述第一像素標(biāo)記的移動位置坐標(biāo)與其目標(biāo)位置坐標(biāo)之間的位置偏差在所述第三預(yù)設(shè)偏差范圍內(nèi)。12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，在獲取所述第一像素標(biāo)記的當(dāng)前位置坐標(biāo)、各所述第一像素標(biāo)記目標(biāo)位置坐標(biāo)、以及所述拉伸單元的當(dāng)前位置坐標(biāo)之前，還包括：當(dāng)將所述金屬掩模夾持固定于各所述夾持單元上時，控制各所述拉伸單元一一對應(yīng)地帶動各所述柔性單元和各所述夾持單元在所述第一方向和/或所述第二方向上發(fā)生位移，以對所述金屬掩模施加初始力，并基于所述預(yù)對準(zhǔn)標(biāo)記對所述金屬掩模在z軸的旋轉(zhuǎn)方向進(jìn)行預(yù)對準(zhǔn)、以及基于所述tp標(biāo)記對所述金屬掩模進(jìn)行粗-精對準(zhǔn)。13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法，其特征在于，所述金屬掩模包括多個第一像素標(biāo)記；各所述第一像素標(biāo)記均勻分布于所述金屬掩模中。14.一種張網(wǎng)設(shè)備，其特征在于，包括：控制器和權(quán)利要求1～6任一項所述的金屬掩模的張網(wǎng)裝置；所述控制器用于執(zhí)行權(quán)利要求7～13任一項所述的金屬掩模的張網(wǎng)方法。

技術(shù)總結(jié)

本發(fā)明實施例公開了一種金屬掩模的張網(wǎng)裝置及其方法、張網(wǎng)設(shè)備，該金屬掩模的張網(wǎng)裝置包括多個夾持拉伸模塊和多個第一運動機(jī)構(gòu)；夾持拉伸模塊分布于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)相對的兩側(cè)；夾持拉伸模塊包括夾持單元、柔性單元、拉伸單元以及位移檢測單元；夾持單元、柔性單元和拉伸單元沿第一方向依次排列；拉伸單元設(shè)置于第一運動機(jī)構(gòu)上；第一運動機(jī)構(gòu)帶動拉伸單元沿第一方向和/或第二方向運動；夾持單元用于夾持并固定位于金屬掩模張網(wǎng)區(qū)的金屬掩模；位移檢測單元用于檢測對應(yīng)的拉伸單元的位移信息；其中，各第一運動機(jī)構(gòu)的運動狀態(tài)相互獨立，以及同一第一運動機(jī)構(gòu)在第一方向上的運動狀態(tài)與其在第二方向上的運動狀態(tài)相互獨立。與其在第二方向上的運動狀態(tài)相互獨立。與其在第二方向上的運動狀態(tài)相互獨立。

技術(shù)研發(fā)人員：黃元昊 魏柏林 周暢 徐兵

受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司

技術(shù)研發(fā)日：2021.06.30

技術(shù)公布日：2022/12/29