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熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法與流程

1059   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來源:南京博納能源環(huán)??萍加邢薰?nbsp; 
2023-10-23 16:34:27
一種熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法與流程

1.本發(fā)明屬于熔融硅造粒技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法。

背景技術(shù):

2.工業(yè)硅的性質(zhì)與鍺、鉛、錫相近,具有半導體性質(zhì)。硅在地殼中資源極為豐富,僅次于氧,占地殼總重的四分之一還多,以二氧化硅或硅酸鹽形式存在。工業(yè)硅的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛,主要用于有機硅生產(chǎn)原料、非鐵基合金的添加劑以及制取高純度的半導體材料等。工業(yè)中高純度硅的生產(chǎn)工藝中需要將高溫熔融硅冷卻破碎造粒并同時保證純度。一般的工藝方法是直接冷卻再用錘破機破碎,但錘破機的錘頭與硅塊直接接觸,其金屬物質(zhì)會混入硅塊,導致硅純度下降,成品價格大打折扣。

3.cn110860333a公開了工業(yè)硅造粒技術(shù)領(lǐng)域的一種工業(yè)硅造粒裝置及其造粒方法,該工業(yè)硅造粒裝置包括支撐架,該工業(yè)硅造粒裝置的造粒方法包括如下步驟:粉碎造粒;篩分;研磨;該裝置通過在進料口處設(shè)置電磁振動給料機,一方面能夠?qū)崿F(xiàn)定量加料,另一方面可以使原料連續(xù)均勻的進入粉碎箱內(nèi),避免了進料忽多忽少的現(xiàn)象,使得粉碎成粒后的工業(yè)硅顆粒大小較為均勻,粉碎箱體內(nèi)設(shè)有篩板,通過粉碎箱粉碎工業(yè)硅時產(chǎn)生的振動帶動篩板振動可直接將工業(yè)硅粗粉和工業(yè)硅顆粒進行分離,分離后將工業(yè)硅粗粉進一步研磨成細粉,以用于其它場合,提高了經(jīng)濟效益,支撐架底部設(shè)有減振器,具有一定減振隔振作用。

4.cn211436965u公開了一種用于硅生產(chǎn)的硅料造粒裝置,其結(jié)構(gòu)包括機架,機架上傾斜設(shè)有造粒圓盤,其創(chuàng)新點在于:其結(jié)構(gòu)還包括篩網(wǎng)組件,造粒圓盤設(shè)有出料口,出料口上設(shè)有電磁閥,篩網(wǎng)組件位于造粒圓盤的下方,上述篩網(wǎng)組件包括底座、振動單元以及若干層篩板,振動單元振動設(shè)置在底座上,若干篩板從上到下依次逐層傾斜且相互平行的設(shè)置在振動單元上,篩板的傾斜方向和造粒圓盤的傾斜方向一致,篩板上均勻分布有濾孔,每層濾孔的孔徑從上到下依次降低,每層篩板設(shè)有收集箱,該實用新型實現(xiàn)了對硅料造粒后的分類收集,保證了收集硅料粒徑大小的均勻性,同時方便后續(xù)對不同粒徑的硅料進行分類烘干處理,提高了后續(xù)硅料顆粒的烘干效率。

5.cn208275362u公開了一種無機硅造粒裝置,包括料槽,料槽內(nèi)設(shè)有攪拌裝置,料槽的開口上方設(shè)有料液噴頭,料槽的槽體外部設(shè)有冷卻夾套;攪拌裝置包括平行設(shè)置的多個轉(zhuǎn)軸,轉(zhuǎn)軸沿軸向設(shè)有第一攪拌機構(gòu)和第二攪拌機構(gòu),第一攪拌機構(gòu)包括設(shè)置在轉(zhuǎn)軸上的轉(zhuǎn)盤,轉(zhuǎn)盤沿周向設(shè)有多個攪拌葉片;第二攪拌機構(gòu)包括設(shè)置在轉(zhuǎn)軸上的攪拌框,攪拌框上均勻設(shè)有多個攪拌葉輪。利用該實用新型中的造粒裝置,不需要攪拌裝置高速旋轉(zhuǎn)將物料混合均勻,防止物料成塊,而且還可以除去鐵性異物的干擾。

6.現(xiàn)有的造粒裝置,沒有將產(chǎn)生的工業(yè)硅粗顆粒與工業(yè)硅細顆粒進行分離,影響了成品的品質(zhì),同時粉碎裝置進料口進料量不均勻,易造成粉碎不均勻現(xiàn)象,且還不能有效去除金屬物質(zhì)混入產(chǎn)生的不利影響,因此,亟需設(shè)計研究一套硅造粒的裝置,克服現(xiàn)有技術(shù)的

缺陷,以滿足實際生產(chǎn)生活的需求。

技術(shù)實現(xiàn)要素:

7.針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法,在本發(fā)明中,提供的造粒裝置通過分布裝置、冷卻件和篩分裝置的相互配合,省卻了傳統(tǒng)工藝中使用金屬結(jié)構(gòu)破碎的步驟,且消除了其他金屬元素混入的風險,同時采用氮氣作為冷卻氣體,避免在造粒過程中硅液滴被氧化,能夠使得熔融硅液制成的硅造粒純度更高,構(gòu)造簡單,便于調(diào)整,適合推廣。

8.為達此目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:

9.第一方面,本發(fā)明提供了一種熔融硅出料的造粒裝置,所述造粒裝置包括殼體,所述殼體頂部開設(shè)有進料口,所述殼體內(nèi)部對應(yīng)進料口的一端設(shè)置有分布裝置,靠近所述分布裝置的殼體兩側(cè)分別設(shè)置有介質(zhì)口和回收口一,所述殼體內(nèi)部在所述介質(zhì)口和回收口一的下方對稱設(shè)置有冷卻件,所述殼體底部開設(shè)有出料口,所述出料口外接篩分裝置,且所述篩分裝置上開設(shè)有回收口二。

10.在本發(fā)明中,提供的造粒裝置通過分布裝置、冷卻件和篩分裝置的相互配合,省卻了傳統(tǒng)工藝中使用金屬結(jié)構(gòu)破碎的步驟,且消除了其他金屬元素混入的風險,同時采用氮氣作為冷卻氣體,避免在造粒過程中硅液滴被氧化,能夠使得熔融硅液制成的硅造粒純度更高,構(gòu)造簡單,便于調(diào)整,適合推廣。

11.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述分布裝置為水冷分布器。

12.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述分布裝置為圓錐形,且圓錐形的椎尖朝向所述進料口,所述分布裝置設(shè)置有通孔,且所述分布裝置內(nèi)有冷卻水循環(huán)。

13.本發(fā)明特別限定了分裝裝置的位置和形狀(為圓錐形),是因為在這個設(shè)置條件下,能確保把熔融硅液分成相同的小股,最終達到造粒的顆粒相對均勻。

14.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述介質(zhì)口為冷固態(tài)介質(zhì)口。

15.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述回收口一和回收口二均為氣體回收口。

16.本發(fā)明特別限定了回收口一和回收口二為氣體回收口,是因為本發(fā)明可以對高溫氣體進行回收,達到既能節(jié)約氮氣消耗,又能回收高溫氣體帶的熱量和硅粉塵,達到節(jié)能減排的效果。

17.優(yōu)選地,所述氣體回收口回收氮氣。

18.優(yōu)選地,所述介質(zhì)口和回收口一采用管路插入殼體中形成。

19.優(yōu)選地,所述回收口二采用管路插入篩分裝置中形成。

20.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述冷卻件設(shè)置有至少兩個。

21.本發(fā)明中的冷卻件能夠?qū)θ廴诠枰哼M行冷卻,對熔融硅液進行冷卻的介質(zhì)有氮氣和硅塊,硅塊的作業(yè)把液硅分割成小顆粒,使小硅液滴容易固化,氮氣一方面換熱,另一方面氮氣噴入裝置還能夠起到保護氣的作用,防止高溫硅液滴和氧氣發(fā)生反應(yīng),從而影響造粒品質(zhì)。

22.優(yōu)選地,每個所述冷卻件為冷卻氮氣噴入裝置。

23.優(yōu)選地,每個所述冷卻件的噴射方向朝向所述分布裝置。

24.優(yōu)選地,每個所述冷卻件的噴射角度為40~50

°

,例如可以是40

°

、41

°

、42

°

、43

°

、

44

°

、45

°

、46

°

、47

°

、48

°

、49

°

、50

°

,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

25.本發(fā)明特別限定了所述冷卻件的噴射角度為40~50

°

,規(guī)定氮氣噴射角度是因為在此角度范圍內(nèi),氮氣能有效擾動下落的硅粒,使氮氣與硅粒充分接觸,有利于換熱和造粒均勻;大于50

°

時,會造成氮氣對部分硅粒沒有起到擾動作業(yè),造成造粒不徹底,容易形成大顆粒;小于40

°

會導致氮氣與硅顆粒接觸時間短,影響換熱時間,從而影響冷卻效果。

26.優(yōu)選地,所述冷卻氮氣噴入裝置的氮氣壓力為0.5~0.8mpa,例如可以是0.5mpa、0.55mpa、0.6mpa、0.65mpa、0.7mpa、0.75mpa、0.8mpa,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

27.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述篩分裝置為震動篩分機。

28.優(yōu)選地,所述震動篩分機底部設(shè)置有篩分板。

29.優(yōu)選地,所述篩分板沿物料流動方向分為第一篩分段、第二篩分段和第三篩分段。

30.優(yōu)選地,所述第一篩分段的孔徑小于第二篩分段的孔徑,所述第二篩分段的孔徑小于第三篩分段的孔徑。

31.第二方面,本發(fā)明提供了一種第一方面所述的造粒裝置的造粒方法,所述造粒方法包括:

32.熔融硅液自進料口進入殼體內(nèi)部,硅介質(zhì)顆粒由介質(zhì)口進入殼體內(nèi)部,依次經(jīng)分布裝置分散、冷卻件冷卻后,至篩分裝置后被分散成粒徑不同的熔融硅造粒。

33.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述熔融硅液的溫度為1500~1600℃,例如可以是1500℃、1510℃、1520℃、1530℃、1540℃、1550℃、1560℃、1570℃、1580℃、1590℃、1600℃,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

34.優(yōu)選地,所述硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口進入殼體內(nèi)部的流速為5~8m/s,例如可以是5m/s、5.5m/s、6m/s、6.5m/s、7m/s、7.5m/s、8m/s,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

35.作為本發(fā)明一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述分布裝置將熔融硅液分散成至少兩股硅液流。

36.優(yōu)選地,所述分布裝置將熔融硅液分散成2~10股硅液流,例如可以是2股、3股、4股、5股、6股、7股、8股、9股、10股,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

37.優(yōu)選地,所述熔融硅經(jīng)冷卻件冷卻后的溫度為200~250℃,例如可以是200℃、210℃、220℃、230℃、240℃、250℃,但并不僅限于所列舉的數(shù)值,該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

38.與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:

39.在本發(fā)明中,提供的造粒裝置通過分布裝置、冷卻件和篩分裝置的相互配合,省卻了傳統(tǒng)工藝中使用金屬結(jié)構(gòu)破碎的步驟,且消除了其他金屬元素混入的風險,同時采用氮氣作為冷卻氣體,避免在造粒過程中硅液滴被氧化,能夠使得熔融硅液制成的硅造粒純度更高,構(gòu)造簡單,便于調(diào)整,適合推廣。

附圖說明

40.圖1為本發(fā)明一個具體實施方式中提供的熔融硅出料的造粒裝置結(jié)構(gòu)示意圖;

41.其中,1-殼體;2-分布裝置;3-冷卻件;4-篩分裝置;5-介質(zhì)口;6-回收口一;7-回收口二;8-進料口;9-出料口;10-成品倉一;11-冷固態(tài)介質(zhì)收集倉;12-成品倉二。

具體實施方式

42.需要理解的是,在本發(fā)明的描述中,術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中,除非另有說明,“多個”的含義是兩個或兩個以上。

43.需要說明的是,在本發(fā)明的描述中,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“設(shè)置”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體連接;可以是機械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以通過具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

44.本領(lǐng)域技術(shù)人員理應(yīng)了解的是,本發(fā)明中必然包括用于實現(xiàn)工藝完整的必要管線、常規(guī)閥門和通用泵設(shè)備,但以上內(nèi)容不屬于本發(fā)明的主要發(fā)明點,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以基于工藝流程和設(shè)備結(jié)構(gòu)選型可以自行增設(shè)布局,本發(fā)明對此不做特殊要求和具體限定。

45.下面結(jié)合附圖并通過具體實施方式來進一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。

46.在一個具體實施方式中,本發(fā)明提供了一種熔融硅出料的造粒裝置,如圖1所示,所述造粒裝置包括殼體1,殼體1頂部開設(shè)有進料口8,殼體1內(nèi)部對應(yīng)進料口8的一端設(shè)置有分布裝置2,靠近分布裝置2的殼體1兩側(cè)分別設(shè)置有介質(zhì)口5和回收口一6,殼體1內(nèi)部在所述介質(zhì)口5和回收口一6的下方對稱設(shè)置有冷卻件3,殼體1底部開設(shè)有出料口9,出料口9外接篩分裝置4,且篩分裝置4上開設(shè)有回收口二7。

47.在本發(fā)明中,提供的造粒裝置通過分布裝置2、冷卻件3和篩分裝置4的相互配合,省卻了傳統(tǒng)工藝中使用金屬結(jié)構(gòu)破碎的步驟,且消除了其他金屬元素混入的風險,能夠使得熔融硅液制成的硅造粒純度更高,構(gòu)造簡單,便于調(diào)整,適合推廣。

48.分布裝置2為水冷分布器。分布裝置2為圓錐形,且圓錐形的椎尖朝向進料口8,分布裝置2設(shè)置有通孔,且分布裝置2內(nèi)有冷卻水循環(huán)。本發(fā)明特別限定了分裝裝置的位置和形狀(為圓錐形),是因為在這個設(shè)置條件下,能確保把熔融硅液分成相同的小股,最終達到造粒的顆粒相對均勻。

49.介質(zhì)口5為冷固態(tài)介質(zhì)口5,回收口一6和回收口二7均為氣體回收口。本發(fā)明特別限定了回收口一6和回收口二7為氣體回收口,是因為本發(fā)明可以對高溫氣體進行回收,達到既能節(jié)約氮氣消耗,又能回收高溫氣體帶的熱量和硅粉塵,達到節(jié)能減排的效果。

50.氣體回收口回收氮氣,介質(zhì)口5和回收口一6采用管路插入殼體1中形成,回收口二

7采用管路插入篩分裝置4中形成。

51.冷卻件3設(shè)置有至少兩個,每個冷卻件3為冷卻氮氣噴入裝置,每個冷卻件3的噴射方向朝向分布裝置2,本發(fā)明中的冷卻件3能夠?qū)θ廴诠枰哼M行冷卻,對熔融硅液進行冷卻的介質(zhì)有氮氣和硅塊,硅塊的作業(yè)把液硅分割成小顆粒,使小硅液滴容易固化,氮氣一方面換熱,另一方面氮氣噴入裝置還能夠起到保護氣的作用,防止高溫硅液滴和氧氣發(fā)生反應(yīng),從而影響造粒品質(zhì)。

52.每個冷卻件3的噴射角度為40~50

°

,冷卻氮氣噴入裝置的氮氣壓力為0.5~0.8mpa,本發(fā)明特別限定了所述冷卻件3的噴射角度為40~50

°

,規(guī)定氮氣噴射角度是因為在此角度范圍內(nèi),氮氣能有效擾動下落的硅粒,使氮氣與硅粒充分接觸,有利于換熱和造粒均勻,大于50

°

時,會造成氮氣對部分硅粒沒有起到擾動作業(yè),造成造粒不徹底,容易形成大顆粒;小于40

°

會導致氮氣與硅顆粒接觸時間短,影響換熱時間,從而影響冷卻效果。

53.篩分裝置4為震動篩分機,震動篩分機底部設(shè)置有篩分板,篩分板沿物料流動方向分為第一篩分段、第二篩分段和第三篩分段,進一步地,第一篩分段的孔徑小于第二篩分段的孔徑,第二篩分段的孔徑小于第三篩分段的孔徑。

54.在另一個具體實施方式中,本發(fā)明提供了一個具體實施方式中所述的造粒裝置的造粒方法,所述造粒方法包括:

55.熔融硅液自進料口8進入殼體1內(nèi)部,硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口5進入殼體1內(nèi)部,依次經(jīng)分布裝置2分散、冷卻件3冷卻后,至篩分裝置4后被分散成粒徑不同的熔融硅造粒。

56.熔融硅液的溫度為1500~1600℃,硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口5進入殼體1內(nèi)部的流速為5~8m/s;分布裝置2將熔融硅液分散成至少兩股硅液流,分布裝置2將熔融硅液分散成2~10股硅液流;熔融硅經(jīng)冷卻件3冷卻后的溫度為200~250℃。

57.實施例1

58.本實施例提供了一種熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法,其中:

59.造粒裝置包括殼體1,殼體1頂部開設(shè)有進料口8,殼體1內(nèi)部對應(yīng)進料口8的一端設(shè)置有分布裝置2,靠近分布裝置2的殼體1兩側(cè)分別設(shè)置有介質(zhì)口5和回收口一6,殼體1內(nèi)部在所述介質(zhì)口5和回收口一6的下方對稱設(shè)置有冷卻件3,殼體1底部開設(shè)有出料口9,出料口9外接篩分裝置4,且篩分裝置4上開設(shè)有回收口二7。

60.分布裝置2為水冷分布器,分布裝置2為圓錐形,且圓錐形的椎尖朝向進料口8,分布裝置2設(shè)置有通孔,且分布裝置2內(nèi)有冷卻水循環(huán)。介質(zhì)口5為冷固態(tài)介質(zhì)口5,回收口一6和回收口二7均為氣體回收口。氣體回收口回收氮氣,介質(zhì)口5和回收口一6采用管路插入殼體1中形成,回收口二7采用管路插入篩分裝置4中形成。冷卻件3設(shè)置有6個,每個冷卻件3為冷卻氮氣噴入裝置,每個冷卻件3的噴射方向朝向分布裝置2。

61.每個冷卻件3的噴射角度為45

°

,冷卻氮氣噴入裝置的氮氣壓力為0.6mpa,篩分裝置4為震動篩分機,震動篩分機底部設(shè)置有篩分板,篩分板沿物料流動方向分為第一篩分段、第二篩分段和第三篩分段,分別連接成品倉一10、冷固態(tài)介質(zhì)收集倉11、成品倉二12,進一步地,第一篩分段的孔徑小于第二篩分段的孔徑,第二篩分段的孔徑小于第三篩分段的孔徑。

62.所述的造粒裝置的造粒方法包括:熔融硅液自進料口8進入殼體1內(nèi)部,硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口5進入殼體1內(nèi)部,依次經(jīng)分布裝置2分散、冷卻件3冷卻后,至篩分裝置4后被分

散成粒徑不同的熔融硅造粒。

63.熔融硅液的溫度為1550℃,硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口5進入殼體1內(nèi)部的流速為6m/s;分布裝置2將熔融硅液分散成至少兩股硅液流,分布裝置2將熔融硅液分散成8股硅液流;熔融硅經(jīng)冷卻件3冷卻后的溫度為250℃。

64.申請人聲明,以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了,任何屬于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到的變化或替換,均落在本發(fā)明的保護范圍和公開范圍之內(nèi)。技術(shù)特征:

1.一種熔融硅出料的造粒裝置,其特征在于,所述造粒裝置包括殼體,所述殼體頂部開設(shè)有進料口,所述殼體內(nèi)部對應(yīng)進料口的一端設(shè)置有分布裝置,靠近所述分布裝置的殼體兩側(cè)分別設(shè)置有介質(zhì)口和回收口一,所述殼體內(nèi)部在所述介質(zhì)口和回收口一的下方對稱設(shè)置有冷卻件,所述殼體底部開設(shè)有出料口,所述出料口外接篩分裝置,且所述篩分裝置上開設(shè)有回收口二。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的造粒裝置,其特征在于,所述分布裝置為水冷分布器。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的造粒裝置,其特征在于,所述分布裝置為圓錐形,且圓錐形的椎尖朝向所述進料口,所述分布裝置設(shè)置有通孔,且所述分布裝置內(nèi)有冷卻水循環(huán)。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的造粒裝置,其特征在于,所述介質(zhì)口為冷固態(tài)介質(zhì)口。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的造粒裝置,其特征在于,所述回收口一和回收口二均為氣體回收口;優(yōu)選地,所述氣體回收口回收氮氣;優(yōu)選地,所述介質(zhì)口和回收口一采用管路插入殼體中形成;優(yōu)選地,所述回收口二采用管路插入篩分裝置中形成。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的造粒裝置,其特征在于,所述冷卻件設(shè)置有至少兩個;優(yōu)選地,每個所述冷卻件為冷卻氮氣噴入裝置;優(yōu)選地,每個所述冷卻件的噴射方向朝向所述分布裝置;優(yōu)選地,每個所述冷卻件的噴射角度為40~50

°

;優(yōu)選地,所述冷卻氮氣噴入裝置的氮氣壓力為0.5~0.8mpa。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的造粒裝置,其特征在于,所述篩分裝置為震動篩分機;優(yōu)選地,所述震動篩分機底部設(shè)置有篩分板;優(yōu)選地,所述篩分板沿物料流動方向分為第一篩分段、第二篩分段和第三篩分段;優(yōu)選地,所述第一篩分段的孔徑小于第二篩分段的孔徑,所述第二篩分段的孔徑小于第三篩分段的孔徑。8.一種根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項所述的造粒裝置的造粒方法,其特征在于,所述造粒方法包括:熔融硅液自進料口進入殼體內(nèi)部,硅介質(zhì)顆粒由介質(zhì)口進入殼體內(nèi)部,依次經(jīng)分布裝置分散、冷卻件冷卻后,至篩分裝置后被分散成粒徑不同的熔融硅造粒。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的造粒方法,其特征在于,所述熔融硅液的溫度為1500~1600℃;優(yōu)選地,所述硅介質(zhì)顆粒自介質(zhì)口進入殼體內(nèi)部的流速為5~8m/s。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的造粒方法,其特征在于,所述分布裝置將熔融硅液分散成至少兩股硅液流;優(yōu)選地,所述分布裝置將熔融硅液分散成2~10股硅液流;優(yōu)選地,所述熔融硅經(jīng)冷卻件冷卻后的溫度為200~250℃。

技術(shù)總結(jié)

本發(fā)明提供了一種熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法,所述造粒裝置包括殼體,所述殼體頂部開設(shè)有進料口,所述殼體內(nèi)部對應(yīng)進料口的一端設(shè)置有分布裝置,靠近所述分布裝置的殼體兩側(cè)分別設(shè)置有介質(zhì)口和回收口一,所述殼體內(nèi)部在所述介質(zhì)口和回收口一的下方對稱設(shè)置有冷卻件,所述殼體底部開設(shè)有出料口,所述出料口外接篩分裝置,且所述篩分裝置上開設(shè)有回收口二。在本發(fā)明中,提供的造粒裝置通過分布裝置、冷卻件和篩分裝置的相互配合,省卻了傳統(tǒng)工藝中使用金屬結(jié)構(gòu)破碎的步驟,且消除了其他金屬元素混入的風險,能夠使得熔融硅液制成的硅造粒純度更高,構(gòu)造簡單,便于調(diào)整,適合推廣。廣。廣。

技術(shù)研發(fā)人員:單宏偉 張曉東 孫恕堅 王凱

受保護的技術(shù)使用者:南京博納能源環(huán)??萍加邢薰?br />
技術(shù)研發(fā)日:2022.02.14

技術(shù)公布日:2022/4/29
聲明:
“熔融硅出料的造粒裝置及其造粒方法與流程” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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