光學(xué)電子行業(yè)專用鋯鋁復(fù)合研磨微粉及其制作方法,由電熔
氧化鋁、硅酸鋯兩種主要原材料,經(jīng)球磨、水洗、分級、復(fù)配、表面涂覆、過濾、噴霧干燥、過篩制作而成,含量復(fù)配的比例為:氧化鋁顆粒含量為30-50%,硅酸鋯顆粒含量為70-50%;本發(fā)明的產(chǎn)品具有顆粒形狀搭配合理,粒度分布窄,中位徑穩(wěn)定,基本粒徑比例高,無大顆粒,無超細(xì)顆粒,顆粒間潤滑性優(yōu)良的性能,特別適應(yīng)光學(xué)電子行業(yè)高新技術(shù)產(chǎn)品的研磨、拋光。
聲明:
“光學(xué)電子行業(yè)專用鋯鋁復(fù)合研磨微粉及其制作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)