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高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法與流程

690   編輯:中冶有色技術(shù)網(wǎng)   來源:美軻(廣州)新材料股份有限公司  
2023-11-01 11:17:54
一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法與流程

1.本發(fā)明涉及拋光漿料制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法。

背景技術(shù):

2.拋光液是超細(xì)固體研磨材料和化學(xué)添加劑的混合物,為均勻分散的乳白色膠體,起到研磨、腐蝕溶解等作用,主要原料包括研磨顆粒、ph調(diào)節(jié)劑、氧化劑和分散劑等。高精度、高性能晶圓拋光的對拋光漿液的要求高,而目前國內(nèi)現(xiàn)有的拋光漿料產(chǎn)品在使用時存在分散性不佳、拋光效果一般的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素:

3.本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點,而提出的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法。

4.為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:

5.一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,包括以下步驟:

6.步驟1:將氧化鋁原料、超純水和研磨介質(zhì)a上料研磨機(jī)a中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為1-3μm;

7.步驟2:將研磨機(jī)a中研磨完成后的氧化鋁、超純水輸送至研磨機(jī)b中,并將分散劑和研磨介質(zhì)b上料至研磨機(jī)b中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為80-120nm,d99<280nm;

8.步驟3:對研磨機(jī)b中研磨完成后的氧化鋁漿料進(jìn)行純化處理;

9.步驟4:對純化處理后的氧化鋁漿料進(jìn)行過濾,得到高純度納米氧化鋁拋光漿料。

10.優(yōu)選的,步驟2中分散劑的添加量為氧化鋁原料重量占比的0.3%-10%。

11.優(yōu)選的,步驟4制備所得的高純度納米氧化鋁拋光漿料的固含量為20%。

12.優(yōu)選的,所述氧化鋁原料為原晶粒徑<0.5μm的煅燒α-al2o3;α-al2o3含量≥98%,總al2o3純度≥99.8%。

13.優(yōu)選的,所述分散劑為三乙醇胺、聚丙烯酸銨鹽、三聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉、聚乙烯醇、十二烷基苯磺酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、苯乙烯-馬來酸系超分散劑中的一種或幾種。

14.優(yōu)選的,所述聚乙烯醇的聚合度為2.5萬-17萬,醇解度為78%-98%;所述聚丙烯酸銨鹽的固含量為35%-65%。

15.優(yōu)選的,所述研磨介質(zhì)a為氧化鋁球和氧化鋯球中的一種;研磨介質(zhì)a的直徑為2mm。

16.優(yōu)選的,步驟1中的研磨時長為15min,研磨得到的氧化鋁粒徑d50為2μm。

17.優(yōu)選的,所述研磨介質(zhì)b為氧化鋁球和氧化鋯球中的一種;研磨介質(zhì)b的直徑為0.1mm。

18.優(yōu)選的,步驟2中研磨時長為4-8h。

19.優(yōu)選的,步驟3中的純化處理方法為:采用陰離子交換樹脂和陽離子交換樹脂對氧

化鋁漿料進(jìn)行純化處理;純化處理后漿料中離子濃度為:鐵離子<30ppm,鈉離子<20ppm,鉀離子<20ppm。

20.優(yōu)選的,步驟4中濾芯過濾器的精度為1μm。

21.本發(fā)明的有益效果為:

22.本發(fā)明制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料采用漿料的形式,克服了傳統(tǒng)的粉體的假顆粒團(tuán)聚的缺點,本發(fā)明的漿料產(chǎn)品的分散性更佳,拋光的效果比粉體產(chǎn)品更好,半導(dǎo)體拋光完成后不會有雜質(zhì)殘留,拋光后晶圓的表面光滑、平整度更佳。

附圖說明

23.圖1為本發(fā)明實施例1制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑分布圖;

24.圖2為本發(fā)明對比例1制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑分布圖;

25.圖3為本發(fā)明對比例2制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑分布圖;

26.圖4為本發(fā)明對比例3制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑分布圖。

具體實施方式

27.下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。

28.一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,包括以下步驟:

29.步驟1:將氧化鋁原料、超純水和研磨介質(zhì)a上料研磨機(jī)a中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為1-3μm;步驟2:將研磨機(jī)a中研磨完成后的氧化鋁、超純水輸送至研磨機(jī)b中,并將分散劑和研磨介質(zhì)b上料至研磨機(jī)b中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為80-120nm,d99<280nm;步驟3:對研磨機(jī)b中研磨完成后的氧化鋁漿料進(jìn)行純化處理;步驟4:對純化處理后的氧化鋁漿料進(jìn)行過濾,得到高純度納米氧化鋁拋光漿料。

30.本發(fā)明中,氧化鋁原料為原晶粒徑<0.5μm的煅燒α-al2o3;α-al2o3含量≥98%,總al2o3純度≥99.8%。

31.本發(fā)明中,分散劑的添加量為氧化鋁原料重量占比的0.3%-10%;制備所得的高純度納米氧化鋁拋光漿料的固含量為20%。

32.本發(fā)明中,分散劑為三乙醇胺、聚丙烯酸銨鹽、三聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉、聚乙烯醇、十二烷基苯磺酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、苯乙烯-馬來酸系超分散劑中的一種或幾種。

33.本發(fā)明中,聚乙烯醇的聚合度為2.5萬-17萬,醇解度為78%-98%;所述聚丙烯酸銨鹽的固含量為35%-65%。

34.實施例1

35.在一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)中投入3000g的φ2mm的99%氧化鋁球,在循環(huán)中間儲罐a中投入500g的α-al2o3粉(純度≥98%,粒徑d50約為75um),投入超純水2000g;砂磨機(jī)線速度約為10m/s,研磨至取樣檢測粒徑d50約為2μm;停止研磨,將該循環(huán)中間儲罐a連接至另一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)(砂磨機(jī)線速度約為10m/s),磨介為5000g的φ0.1mm99%氧化鋁球,往漿液中投入混合分散劑(聚乙烯醇8g+聚丙烯酸銨鹽20g+苯乙烯-馬來酸系超分散劑12g)共40.0g,通過該中間儲罐a、循環(huán)泵,進(jìn)行循環(huán)研磨,直至粒徑d50為80-120nm、d99小于280nm(研磨時間為4-8小時);卸出中間儲罐a中的漿料,用蠕動泵,調(diào)整流量,以慢速經(jīng)過一

套離子交換柱,漿液流至中間儲罐b,取樣檢測漿液的離子含量,直至離子濃度需符合要求:鐵離子<30ppm,鈉離子<20ppm,鉀離子<20ppm;最后,通過中間儲罐b,連接蠕動泵,經(jīng)精度為1μm的濾芯過濾器,過濾成為成品。

36.實施例1制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料純度達(dá)到要求,粒徑如圖1所示,也是達(dá)到所要求的范圍。

37.在實施例1的基礎(chǔ)上設(shè)置三組對比例,對漿液固含量、分散劑種類和是否進(jìn)行離子交換對制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料的粒徑影響進(jìn)行測試,對比例如下:

38.對比例1

39.在一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)中投入3000g的φ2mm的99%氧化鋁球,在循環(huán)中間儲罐a中投入500g的α-al2o3粉(純度≥98%,粒徑d50約為75um),投入超純水1500g。砂磨機(jī)線速度約為10m/s,研磨至取樣檢測粒徑d50約為2μm。停止研磨,將該循環(huán)中間儲罐a連接至另一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)(砂磨機(jī)線速度約為10m/s),磨介為5000g的φ0.1mm99%氧化鋁球,往漿液中投入混合分散劑(聚乙烯醇8g+聚丙烯酸銨鹽20g+苯乙烯-馬來酸系超分散劑12g)共40.0g,通過該中間儲罐a、循環(huán)泵,進(jìn)行循環(huán)研磨。當(dāng)研磨至漿液粒徑d50為238nm時,發(fā)生顆粒團(tuán)聚(d99在增大),結(jié)束實驗,沒有進(jìn)行離子交換和濾芯過濾。

40.對比例1為漿液固含量偏大,結(jié)果產(chǎn)品的顆粒發(fā)生團(tuán)聚,制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑如圖2所示,由此可知漿液固含量偏大時,無法研磨至要求的粒徑范圍。

41.對比例2

42.在一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)中投入3000g的φ2mm的99%氧化鋁球,在循環(huán)中間儲罐a中投入500g的α-al2o3粉(純度≥98%,粒徑d50約為75um),投入超純水2000g。砂磨機(jī)線速度約為10m/s,研磨至取樣檢測粒徑d50約為2μm。停止研磨,將該循環(huán)中間儲罐a連接至另一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)(砂磨機(jī)線速度約為10m/s),磨介為5000g的φ0.1mm99%氧化鋁球,往漿液中投入混合分散劑(聚乙烯醇11g+聚丙烯酸銨鹽29g)共40.0g,通過該中間儲罐a、循環(huán)泵,進(jìn)行循環(huán)研磨。當(dāng)研磨至漿液粒徑d50為320nm時,發(fā)生顆粒團(tuán)聚(d99明顯增大),結(jié)束實驗,沒有進(jìn)行離子交換和濾芯過濾。

43.對比例2為分散劑不一樣,結(jié)果產(chǎn)品的顆粒發(fā)生團(tuán)聚,制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑如圖3所示,由此可知分散劑種類的不同會導(dǎo)致研磨至要求的粒徑范圍。

44.對比例3

45.在一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)中投入3000g的φ2mm的99%氧化鋁球,在循環(huán)中間儲罐a中投入500g的α-al2o3粉(純度≥98%,粒徑d50約為75um),投入超純水2000g。砂磨機(jī)線速度約為10m/s,研磨至取樣檢測粒徑d50約為2μm。停止研磨,將該循環(huán)中間儲罐a連接至另一臺2l的臥式棒銷砂磨機(jī)(砂磨機(jī)線速度約為10m/s),磨介為5000g的φ0.1mm99%氧化鋁球,往漿液中投入混合分散劑(聚乙烯醇8g+聚丙烯酸銨鹽20g+苯乙烯-馬來酸系超分散劑12g)共40.0g,通過該中間儲罐a、循環(huán)泵,進(jìn)行循環(huán)研磨,直至粒徑d50為80-120nm、d99小于280nm(研磨時間為4-8小時)。卸出中間儲罐a中的漿料,通過中間儲罐b,連接軟管泵,經(jīng)精度為1μm的濾芯過濾器,過濾成為成品。

46.對比例3為沒有進(jìn)行離子交換,結(jié)果產(chǎn)品的純度沒有達(dá)到要求,且對比例3制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料粒徑如圖4所示。

47.對實施例1和對比例3制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料的純度進(jìn)行檢測,檢測

結(jié)果如表1所示:

48.表1

49.樣品名稱鐵離子<30ppm鈉離子<20ppm鉀離子<20ppm實施例1251812對比例3533127

50.本發(fā)明制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料采用漿料的形式,克服了傳統(tǒng)的粉體的假顆粒團(tuán)聚的缺點,本發(fā)明的漿料產(chǎn)品的分散性更佳,拋光的效果比粉體產(chǎn)品更好,同時解決純度對半導(dǎo)體的影響。

51.以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。技術(shù)特征:

1.一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:步驟1:將氧化鋁原料、超純水和研磨介質(zhì)a上料研磨機(jī)a中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為1-3μm;步驟2:將研磨機(jī)a中研磨完成后的氧化鋁、超純水輸送至研磨機(jī)b中,并將分散劑和研磨介質(zhì)b上料至研磨機(jī)b中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑d50為80-120nm,d99<280nm;步驟3:對研磨機(jī)b中研磨完成后的氧化鋁漿料進(jìn)行純化處理;步驟4:對純化處理后的氧化鋁漿料進(jìn)行過濾,得到高純度納米氧化鋁拋光漿料。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,所述氧化鋁原料為原晶粒徑<0.5μm的煅燒α-al2o3;α-al2o3含量≥98%,總al2o3純度≥99.8%。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,所述分散劑為三乙醇胺、聚丙烯酸銨鹽、三聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉、聚乙烯醇、十二烷基苯磺酸鈉、壬基酚聚氧乙烯醚、苯乙烯-馬來酸系超分散劑中的一種或幾種。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,所述聚乙烯醇的聚合度為2.5萬-17萬,醇解度為78%-98%;所述聚丙烯酸銨鹽的固含量為35%-65%。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,所述研磨介質(zhì)a為氧化鋁球和氧化鋯球中的一種;研磨介質(zhì)a的直徑為2mm。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,步驟1中的研磨時長為15min,研磨得到的氧化鋁粒徑d50為2μm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,所述研磨介質(zhì)b為氧化鋁球和氧化鋯球中的一種;研磨介質(zhì)b的直徑為0.1mm。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,步驟2中研磨時長為4-8h。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,步驟3中的純化處理方法為:采用陰離子交換樹脂和陽離子交換樹脂對氧化鋁漿料進(jìn)行純化處理;純化處理后漿料中離子濃度為:鐵離子<30ppm,鈉離子<20ppm,鉀離子<20ppm。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,其特征在于,步驟4中濾芯過濾器的精度為1μm。

技術(shù)總結(jié)

本發(fā)明涉及拋光漿料制備技術(shù)領(lǐng)域,為了解決現(xiàn)有的拋光漿料產(chǎn)品在使用時存在分散性不佳、拋光效果一般的問題,公開了一種高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法,包括以下步驟:將氧化鋁原料、超純水和研磨介質(zhì)a上料研磨機(jī)A中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑D50為1-3μm;將研磨機(jī)A中研磨完成后的氧化鋁、超純水輸送至研磨機(jī)B中,并將分散劑和研磨介質(zhì)b上料至研磨機(jī)B中,循環(huán)研磨至氧化鋁的粒徑D50為80-120nm,D99<280nm。本發(fā)明制備所得的高純納米氧化鋁拋光漿料采用漿料的形式,克服了傳統(tǒng)的粉體的假顆粒團(tuán)聚的缺點,本發(fā)明的漿料產(chǎn)品的分散性更佳,拋光的效果比粉體產(chǎn)品更好。拋光的效果比粉體產(chǎn)品更好。

技術(shù)研發(fā)人員:鄧廣興 李群鋒 易立群

受保護(hù)的技術(shù)使用者:美軻(廣州)新材料股份有限公司

技術(shù)研發(fā)日:2022.03.18

技術(shù)公布日:2022/7/29
聲明:
“高純納米氧化鋁拋光漿料的制備方法與流程” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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