真空高溫石墨化爐 213     

 0

真空高溫石墨化爐主要用于 C/C的石墨化燒結(jié)處理。復(fù)合材料具有優(yōu)異的綜合性能，特別適于高溫領(lǐng)域，如航空、航天等方面。典型應(yīng)用為飛機的渦輪 、剎車盤、活塞、機翼前緣、鼻錐等。

真空補焊箱（機匣等） 144     

 0

真空補焊箱（機匣等）主要用于鑄件在保護氣氛下補焊工作，焊后無氧化。

真空除氣爐（石墨膜殼） 180     

 0

凝殼爐鑄造用石墨型殼、陶瓷型殼真空下除氣處理及金屬材料的淬火后的回火及各種材料、零件真空下的脫脂除氣。

鈦合金真空退火爐 183     

 0

鈦合金真空退火爐主要用于鈦合金板材、管材等真空退火，能夠?qū)崿F(xiàn)真空退火過程工藝參數(shù)檢測與全過程優(yōu)化控制。

底裝式高壓固溶設(shè)備（盤管、直管） 243     

 0

主要用于石油、石化領(lǐng)域潔凈不銹鋼及航空、電力能源領(lǐng)域等薄壁不銹鋼管的退火、時效處理;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

真空連續(xù)熱處理設(shè)備（直管、盤管） 149     

 0

主要用于電力能源領(lǐng)域、航空航天領(lǐng)域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產(chǎn)品的退火、及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

大型立式真空高壓固溶時效成套設(shè)備（直管、盤管） 242     

 0

主要用于電力能源領(lǐng)域、航空航天領(lǐng)域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產(chǎn)品的退火、正火、回火及時效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理，能夠?qū)崿F(xiàn)真空高壓氣淬、真空回火、真空退火及消除應(yīng)力等熱處理工藝。

真空超高溫超高壓爐（氣壓） 247     

 0

真空超高溫超高壓爐主要用于粉末成型、預(yù)織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結(jié)、浸滲增強、晶體轉(zhuǎn)化生長、化合反應(yīng)等工藝，采用電阻加熱。

真空超高溫超高壓爐(機械加壓） 252     

 0

真空超高溫超高壓爐(機械加壓）主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產(chǎn)品應(yīng)用于能源、航天、航空等領(lǐng)域。

專用脫脂燒結(jié)爐（注射成型MIM） 148     

 0

專用脫脂燒結(jié)爐（注射成型MIM）主要用于鐵基、不銹鋼、鈦合金、合金鋼和高速鋼等材料的注射成型制品的脫脂和燒結(jié)。

真空燒結(jié)爐（氧化鋁粉） 162     

 0

真空燒結(jié)爐（氧化鋁粉）主要用于氧化鋁粉、特種陶瓷、高純氧化鋁塊、超純氧化鋁餅在保護氣氛下的連續(xù)燒成 。

真空高溫?zé)Y(jié)爐（碳碳、碳碳-碳陶復(fù)合材料） 188     

 0

真空高溫?zé)Y(jié)爐（碳碳、碳碳-碳陶復(fù)合材料）主要用于碳/碳復(fù)合材料、碳/碳-碳/陶復(fù)合材料的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空高溫?zé)Y(jié)爐（碳化硅、氮化硅） 162     

 0

真空高溫?zé)Y(jié)爐（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反應(yīng)燒結(jié)、無壓燒結(jié)、重結(jié)晶燒結(jié)、熱等靜壓燒結(jié)，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結(jié)。

真空高溫?zé)Y(jié)爐（石墨提純） 159     

 0

真空高溫?zé)Y(jié)爐（石墨提純）主要用于石墨制品等的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空鎢網(wǎng)爐/連續(xù)生產(chǎn)線 （電力能源燃料芯塊） 160     

 0

真空鎢網(wǎng)爐/連續(xù)生產(chǎn)線 主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結(jié)處理。

真空燒結(jié)爐（碳納米管） 164     

 0

真空燒結(jié)爐（碳納米管）主要用于制備大型納米碳材料，如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備。

真空燒結(jié)爐（電池負極） 162     

 0

設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、升溫速度快、密封性能好、爐膛溫度均勻性高，擁有高性能的燒結(jié)效果、現(xiàn)代化的外型設(shè)計和簡單便捷的操作功能。

真空高頻感應(yīng)釬焊爐 159     

 0

主要用于航空發(fā)動機帶直通接頭、三通接頭、馬鞍座接頭及彎頭等機構(gòu)導(dǎo)管組件的惰性氣體保護感應(yīng)釬焊。

真空熱壓爐（擴散焊） 240     

 0

主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產(chǎn)品應(yīng)用于核能、航天、航空等領(lǐng)域。

真空鋁釬焊爐 174     

 0

鋁及鋁合金葉輪、散熱器、波導(dǎo)器件、汽車冷凝器等產(chǎn)品的真空釬焊處理，廣泛應(yīng)用于汽車、電子、國防、航天、航空領(lǐng)域。

真空水淬爐 245     

 0

真空水淬爐主要用于45#鋼及鋁型材等的真空水淬處理。

真空高溫釬焊爐 178     

 0

主要用于不銹鋼、銅合金、高溫合金、鈦合金、硬質(zhì)合金、金屬陶瓷等材料的真空釬焊，適用釬料為鎳基、銅、銀基等。

真空自耗電極電弧爐 384     

 0

產(chǎn)品應(yīng)用：采用壓制或感應(yīng)爐熔煉的原料錠棒為電極，在真空或保護氣氛下通過電弧高溫熔煉或重熔該電極原料的真空冶金精煉設(shè)備。用于鈦及鈦合金、鋯等活潑金屬材料重熔提純。技術(shù)參數(shù)：型號HVAR/M(生產(chǎn)型)HVAR/S(實驗型)HVAR/C(連鑄型)

200kg真空感應(yīng)熔煉爐 267     

 0

200kg真空感應(yīng)熔煉爐是一種先進的冶金設(shè)備，它在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理進行金屬的熔化。這種設(shè)備廣泛用于金屬和合金的冶煉、鑄造和重熔等工藝。該設(shè)備采用旋轉(zhuǎn)錠模托板，一爐可澆鑄多個錠子，適用于銀基、鎳基合金、特殊不銹鋼等在真空或保護氣氛下進行熔化、精煉。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)（實驗型） 289     

 0

在冶金實驗領(lǐng)域，精準、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關(guān)鍵。實驗型電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)為冶金研究提供了理想的解決方案。該設(shè)備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內(nèi)的絕大多數(shù)金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統(tǒng)冶金實驗方法的局限。其由高真空獲得與測量系統(tǒng)、粉體制備系統(tǒng)、粉體收集系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)組成，高真空機組采用復(fù)合分子泵及機械泵，制備室極限真空度可達≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實驗中的粉體生成提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保粉體的純度和質(zhì)量。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)（生產(chǎn)型） 276     

 0

在冶金行業(yè)，納米金屬粉體材料的應(yīng)用前景廣闊，而電弧等離子體金屬納米粉制備系統(tǒng)正是為滿足這一需求而誕生的先進生產(chǎn)型設(shè)備。該設(shè)備以卓越的冶金工藝為基礎(chǔ)，能夠高效批量制備納米級金屬粉體材料，涵蓋稀土材料在內(nèi)的絕大多數(shù)金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，展現(xiàn)出傳統(tǒng)冶金制備方法難以企及的優(yōu)越性。其高真空獲得與測量系統(tǒng)、粉體制備系統(tǒng)等六大組成部分協(xié)同運作，其中高真空機組采用復(fù)合分子泵、羅茨泵、機械泵組合，為冶金過程中的粉體生成提供穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保粉體質(zhì)量與性能。

高真空熱壓爐 288     

 0

高真空熱壓爐是冶金領(lǐng)域中一種關(guān)鍵的粉末冶金設(shè)備，專門用于粉體材料的熱壓成型。這種設(shè)備通過在高真空環(huán)境下對粉末材料施加高溫和高壓，實現(xiàn)材料的致密化和成型，廣泛應(yīng)用于制造高性能的金屬、陶瓷和復(fù)合材料等。高真空熱壓爐的工作原理和精確控制能力使其成為制備先進材料的重要工具，尤其在需要材料具有高強度、高硬度和優(yōu)異耐磨性的應(yīng)用中。

放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)（SPS） 297     

 0

放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)（SPS）是一種高效的材料制備技術(shù)，它通過在較低溫度下實現(xiàn)快速燒結(jié)，為致密材料的制備提供了一種新穎的方法。這種系統(tǒng)在材料科學(xué)領(lǐng)域，尤其是在納米技術(shù)、非晶材料、復(fù)合材料和梯度材料的制備中，展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用潛力。SPS技術(shù)的應(yīng)用不僅限于傳統(tǒng)材料的加工，還有可能開發(fā)出性能更加優(yōu)良的新材料。

高真空磁控濺射離子鍍膜設(shè)備 282     

 0

高真空磁控濺射離子鍍膜設(shè)備是一種在現(xiàn)代冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中不可或缺的先進工具。該設(shè)備通過在高真空環(huán)境下進行磁控濺射或多弧離子鍍膜，能夠制備出高質(zhì)量的薄膜材料，廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)和科研領(lǐng)域。設(shè)備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運動控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng) 189     

 0

高真空脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD）是冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中一種先進的薄膜沉積技術(shù)。它通過使用高能脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜，特別適用于制備復(fù)雜氧化物、陶瓷和半導(dǎo)體材料等。PLD技術(shù)的獨特之處在于能量源（脈沖激光）位于真空室外部，這使得在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍非常寬，能夠達到10^-8Pa至1Pa，從而為合成具有獨特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒提供了可能。