真空電弧重熔爐 231     

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在真空環(huán)境下，電弧產(chǎn)生于自耗電極底部( 陰極)和坩堝底部(陽極)之間，當(dāng)電弧形成，能夠迅速產(chǎn)生一個(gè)金屬熔池。電極底部和被熔化材料上部之間的電弧加熱區(qū)在確定的熔煉速率控制下被精確的保持。

雙模式真空感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備 365     

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采用有坩堝底鑄式真空感應(yīng)熔煉及惰性氣體霧化法制備金屬及金屬合金的微晶或非晶球形粉末。適用于高溫合金、特殊鋼、銅合金、鋁合金等材料的粉體研發(fā)與制備。

真空熱處理釬焊設(shè)備 297     

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真空熱處理釬焊設(shè)備是一種專用于金屬材料高真空熱處理及真空釬焊的先進(jìn)設(shè)備，廣泛適用于不銹鋼、鈦及鈦合金、高溫合金等零件的真空退火、回火、消除應(yīng)力處理以及真空除氣等工藝。設(shè)備采用立式底裝料結(jié)構(gòu)，有效容積可根據(jù)客戶需求定制，提供800℃、1350℃、1600℃三種最高設(shè)計(jì)溫度可選。其極限真空度優(yōu)于5×10??Pa，壓升率低至≤0.27Pa/h，確保高真空環(huán)境下的穩(wěn)定處理效果。全金屬加熱室設(shè)計(jì)，溫度均勻性優(yōu)于±5℃，符合航空行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)HB5425。

超高真空退火爐 323     

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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的設(shè)備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標(biāo)，確保在高溫下維持高真空環(huán)境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區(qū)尺寸為Ф80x120(mm)。系統(tǒng)由真空抽氣機(jī)組、真空室、測量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動(dòng)升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺架等組成，并通過計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)控制，滿足長時(shí)間高溫處理需求。

臥式真空退火爐 323     

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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設(shè)計(jì)，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結(jié)構(gòu)，確保高效處理。最高加熱溫度可達(dá)1000℃，均溫區(qū)Ф150x600(mm)內(nèi)溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時(shí)。設(shè)備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統(tǒng)組成，滿足高精度熱處理需求。

真空退火爐 243     

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真空退火爐是一種臥式結(jié)構(gòu)的高效熱處理設(shè)備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統(tǒng)空載極限真空度可達(dá)≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時(shí)保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內(nèi)將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內(nèi)。最高加熱溫度可達(dá)1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設(shè)備采用導(dǎo)電智能控溫表，確保精確的溫度控制。

高真空管式氮化爐 258     

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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，安裝在可移動(dòng)臺架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達(dá)250℃，均勻區(qū)軸向長度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調(diào)，并具有多重保護(hù)功能。手套箱設(shè)計(jì)便于樣品處理，氣路系統(tǒng)可控制N?、Ar氣體流量，整個(gè)系統(tǒng)還配有冷卻循環(huán)水裝置和斷水?dāng)嚯娐?lián)鎖保護(hù)，確保安全穩(wěn)定運(yùn)行。

高真空加熱裝置 221     

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高真空加熱裝置是一種先進(jìn)的材料處理設(shè)備，具備優(yōu)異的真空性能，極限真空度可達(dá)<6.7x10??Pa，漏率優(yōu)于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機(jī)組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內(nèi)部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內(nèi)最高加熱溫度達(dá)800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環(huán)降溫系統(tǒng)，保護(hù)罐體密封口，以及包含真空機(jī)組控制、真空度和溫度顯示及系統(tǒng)聯(lián)鎖保護(hù)功能的電控系統(tǒng)。

專用高溫真空熱處理爐 249     

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該真空管式爐具備優(yōu)異的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)到優(yōu)于3.0×10??Pa，而系統(tǒng)漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內(nèi)能夠在極低的氣壓下進(jìn)行高溫處理，適合對材料進(jìn)行精密的熱處理工藝。這些真空指標(biāo)對于確保材料處理過程中的高質(zhì)量和高純度至關(guān)重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結(jié)等應(yīng)用。

真空管式爐 227     

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TAZKS-1100型真空管式爐由沈陽騰蓄真空技術(shù)有限公司生產(chǎn)，是一種用于微波基板生產(chǎn)的設(shè)備。它主要由抽氣系統(tǒng)、石英管組件、過渡室系統(tǒng)、加熱爐系統(tǒng)、樣品架系統(tǒng)和電控系統(tǒng)組成，具備陶瓷基板退火處理和真空燒結(jié)的功能。

高溫高真空試驗(yàn)爐 243     

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高溫高真空試驗(yàn)爐是一種用于高溫真空環(huán)境下的材料性能測試設(shè)備，具備以下特點(diǎn)：在1700K工作溫度下，爐膛內(nèi)真空度優(yōu)于1.0×10??Pa，真空計(jì)測量范圍寬廣（5.0×10??Pa~1.0×10?Pa）。設(shè)備設(shè)計(jì)滿足長時(shí)間穩(wěn)定工作溫度不低于1500℃，最高可達(dá)1550℃，樣品區(qū)域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內(nèi)優(yōu)于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉(zhuǎn)空間（約Ф300mm×200mm），開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。

磁場增強(qiáng)真空蒸餾爐 324     

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磁場增強(qiáng)蒸餾提純爐是一種先進(jìn)的高純度金屬提純設(shè)備，專門用于對鈹金屬進(jìn)行高精度的蒸餾提純。該設(shè)備通過獨(dú)特的設(shè)計(jì)和工藝，能夠有效去除鐵磁性雜質(zhì)，提高金屬的純度，滿足高精度應(yīng)用的需求。

鈹真空熔煉蒸餾提純爐 321     

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鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設(shè)備，采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，在真空環(huán)境中對鈹金屬進(jìn)行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器，蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集，實(shí)現(xiàn)高效提純。該設(shè)備一次蒸餾量可達(dá)3000克，具備工業(yè)化生產(chǎn)規(guī)模，操作簡便，且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便，適合大規(guī)模生產(chǎn)高純度鈹金屬。

高溫高真空管式爐 314     

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用于高等院校及科研部門、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。

難熔金屬真空鎢極電弧熔煉爐 293     

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難熔金屬真空鎢極電弧熔煉爐，電弧熔煉爐指標(biāo)：熔煉室：內(nèi)徑250×360mm、內(nèi)徑300×360mm兩種。高真空后充氣至正壓冶煉。

連續(xù)真空燒結(jié)爐 3401     

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適用于鋁鎳鈷永磁、釹鐵硼、硬質(zhì)合金、陶瓷材料、鎢鉬難熔金屬、復(fù)合材料及其他合金材料的真空或氣氛燒結(jié)。各個(gè)真空室之間由高溫真空閥隔離，可實(shí)現(xiàn)全程無氧操作，連續(xù)作業(yè)生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高且節(jié)省能耗。

真空燒結(jié)熱解爐 2136     

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適用于碳化硅、氮化硅、陶瓷材料、復(fù)合材料粘結(jié)物的熱解，能較徹底地去除材料中的氫氧根。由真空室、供電系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、測溫系統(tǒng)、裝料小車、熱解系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、充氣排膠系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

真空燒結(jié)脫脂爐 2772     

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脫脂燒結(jié)爐設(shè)備主要用于鐵基、不銹鋼、鈦合金、合金鋼、鎢合金、高比重合金、鉬合金和硬質(zhì)合金等材料的脫脂和燒結(jié)，可實(shí)現(xiàn)PEG、石蠟和橡膠等粘結(jié)劑的脫除。

真空氫氣爐 2235     

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真空通氫燒結(jié)爐是在抽真空后充入氫氣保護(hù)狀態(tài)下，利用中頻感應(yīng)加熱的原理，使線圈內(nèi)的鎢坩堝產(chǎn)生高溫，通過熱輻射傳導(dǎo)到被燒結(jié)物料上，適用于難熔合金，如鎢、鉬、鈦及其合金材料的粉末成型燒結(jié)。裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。

臥式壓力燒結(jié)爐 2336     

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真空壓力燒結(jié)爐主要用于硬質(zhì)合金、結(jié)構(gòu)陶瓷材料如Si3N4、SiC、ZrO2，等產(chǎn)品在高壓氣體下的燒結(jié)。由承壓容器、加熱系統(tǒng)、測溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、壓力系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)、鎖緊系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、料臺升降工作平臺等組成。

150公斤真空感應(yīng)熔煉爐 2518     

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RVI-150真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理，使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用立式結(jié)構(gòu)，由真空熔煉室、熔煉裝置、旋轉(zhuǎn)式鑄模裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作平臺等組成。

100公斤真空感應(yīng)熔煉爐 2432     

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RVI-100真空感應(yīng)熔煉爐是在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理，使金屬熔化的真空冶煉成套設(shè)備。廣泛用于科研和生產(chǎn)部門對鎳基及其特殊鋼、精密合金、釹鐵硼、金屬鏑、活潑金屬、高溫合金、儲氫材料、磁性材料、有色金屬及其合金的研究與生產(chǎn).采用立式結(jié)構(gòu)，由真空熔煉室、熔煉裝置、旋轉(zhuǎn)式鑄模裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、多工位觀察窗、水冷系統(tǒng)、工作平臺等組成。

真空精密鑄造爐 1927     

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采用連續(xù)結(jié)構(gòu)，各真空室內(nèi)均有真空閘閥進(jìn)行隔離，可以在不破壞熔室真空的情況下裝放爐料、加合金料、裝取鑄件等，由真空熔煉室、真空加料室、真空鑄模室、熔煉裝置、鑄模傳動(dòng)裝置、真空系統(tǒng)、熔煉電源、自動(dòng)控制系統(tǒng)、真空翻板閥、水冷系統(tǒng)、工作平臺等組成。

真空電弧熔煉爐 2640     

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真空自耗電弧爐主要用于鈦、鋯、鉭、鈮、鎢、鉬等稀有金屬及高溫合金、精密合金等特殊鋼的真空下冶煉鑄錠，可使金屬得到精煉，從而獲得晶體組織結(jié)構(gòu)較好的凈化金屬。

真空石墨化爐 2281     

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真空石墨化爐是在真空或惰性氣體條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理，通過讓感應(yīng)線圈產(chǎn)生交變磁場，使感應(yīng)線圈內(nèi)的石墨坩堝產(chǎn)生渦流進(jìn)行自身加熱，石墨坩堝產(chǎn)生高溫并輻射到工件，使其達(dá)到所需要的溫度。該爐主要用于應(yīng)用碳素材料、碳纖維材料及其它復(fù)合材料的石墨化、燒結(jié)處理。

真空熱壓爐 2211     

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本設(shè)備主要應(yīng)用于硬質(zhì)合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、真空或惰性氣體環(huán)境條件下將材料熱壓成型燒結(jié)設(shè)備，加熱方式有電阻加熱、感應(yīng)加熱兩種方式。

真空油冷氣淬爐 1971     

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該臥式雙室真空氣冷油淬爐主要用于合金結(jié)構(gòu)鋼、軸承鋼、彈簧鋼、具模鋼、高速鋼等材料的真空油介質(zhì)中淬火，及以上相關(guān)材料的正火、氣冷等工藝 氣淬時(shí)，最高充氣壓力2bar。

真空熱處理爐 2296     

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真空熱處理爐用于高速鋼、高合金工模具鋼、電工磁性材料、有色金屬、不銹鋼等產(chǎn)品的光亮退火、回火等熱處理工藝，也可用于固溶時(shí)效、真空釬焊和磁性材料的燒結(jié)。

真空高壓氣淬爐 2186     

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用于高速鋼、工具鋼、模具鋼，合金結(jié)構(gòu)鋼等材料的高壓氣淬，具有對流加熱功能，可實(shí)現(xiàn)分級淬火、等溫淬火等工藝。也可用于粉末材料的燒結(jié)、時(shí)效處理，不銹鋼材料的高溫釬焊、固溶及滲碳、滲氮等熱處理工藝。

金剛石氣相沉積爐 1759     

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該設(shè)備可以用于沉積高質(zhì)量的大面積金剛石膜，沉積的金剛石厚膜直徑達(dá)Φ280mm，涂層面積達(dá)(330×300)mm2，膜沉積速率為(4-20)μm/h