三室真空爐 247     

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與雙室爐和單室爐相反，在三室爐中，裝料后以半連續(xù)模式逐個通過每個腔室。整個設備可同時裝載三個批次（每個腔室一個批次），爐子的工藝周期由三室中最長周期決定（通常在工藝室）。與雙室爐相比，三室爐的產量可提升兩倍。

真空熔煉爐 254     

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真空熔煉爐是一種用于特種金屬（如特鋼、銅合金、輕金屬等）熔煉與澆鑄的先進設備，由中頻電源、雙層水冷爐體、真空機組、液壓翻轉機構、機械攪拌裝置等組成。其工藝是在真空環(huán)境下通過中頻感應加熱將金屬熔化，再經液壓傾爐、澆鑄流槽澆入錠模冷卻成型。該設備采用新型中頻電源設計，優(yōu)化線圈絕緣和爐內結構，降低諧振電流，杜絕放電現象，減少漏水風險，配備智能一體化控制系統(tǒng)，操作簡便且維護方便，廣泛應用于特種金屬的高質量熔煉生產。

超高真空退火爐 323     

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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實驗設計的設備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標，確保在高溫下維持高真空環(huán)境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結構，能夠實現常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區(qū)尺寸為Ф80x120(mm)。系統(tǒng)由真空抽氣機組、真空室、測量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺架等組成，并通過計算機實現控制，滿足長時間高溫處理需求。

臥式真空退火爐 323     

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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設計，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結構，確保高效處理。最高加熱溫度可達1000℃，均溫區(qū)Ф150x600(mm)內溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時。設備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統(tǒng)組成，滿足高精度熱處理需求。

真空退火爐 243     

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真空退火爐是一種臥式結構的高效熱處理設備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統(tǒng)空載極限真空度可達≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內。最高加熱溫度可達1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設備采用導電智能控溫表，確保精確的溫度控制。

高真空管式氮化爐 258     

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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，安裝在可移動臺架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達250℃，均勻區(qū)軸向長度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調，并具有多重保護功能。手套箱設計便于樣品處理，氣路系統(tǒng)可控制N?、Ar氣體流量，整個系統(tǒng)還配有冷卻循環(huán)水裝置和斷水斷電聯(lián)鎖保護，確保安全穩(wěn)定運行。

高真空加熱裝置 221     

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高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備，具備優(yōu)異的真空性能，極限真空度可達<6.7x10??Pa，漏率優(yōu)于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內最高加熱溫度達800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環(huán)降溫系統(tǒng)，保護罐體密封口，以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統(tǒng)聯(lián)鎖保護功能的電控系統(tǒng)。

專用高溫真空熱處理爐 249     

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該真空管式爐具備優(yōu)異的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達到優(yōu)于3.0×10??Pa，而系統(tǒng)漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內能夠在極低的氣壓下進行高溫處理，適合對材料進行精密的熱處理工藝。這些真空指標對于確保材料處理過程中的高質量和高純度至關重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結等應用。

真空管式爐 227     

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TAZKS-1100型真空管式爐由沈陽騰蓄真空技術有限公司生產，是一種用于微波基板生產的設備。它主要由抽氣系統(tǒng)、石英管組件、過渡室系統(tǒng)、加熱爐系統(tǒng)、樣品架系統(tǒng)和電控系統(tǒng)組成，具備陶瓷基板退火處理和真空燒結的功能。

高溫高真空試驗爐 243     

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高溫高真空試驗爐是一種用于高溫真空環(huán)境下的材料性能測試設備，具備以下特點：在1700K工作溫度下，爐膛內真空度優(yōu)于1.0×10??Pa，真空計測量范圍寬廣（5.0×10??Pa~1.0×10?Pa）。設備設計滿足長時間穩(wěn)定工作溫度不低于1500℃，最高可達1550℃，樣品區(qū)域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內優(yōu)于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉空間（約Ф300mm×200mm），開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。

磁場增強真空蒸餾爐 324     

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磁場增強蒸餾提純爐是一種先進的高純度金屬提純設備，專門用于對鈹金屬進行高精度的蒸餾提純。該設備通過獨特的設計和工藝，能夠有效去除鐵磁性雜質，提高金屬的純度，滿足高精度應用的需求。

鈹真空熔煉蒸餾提純爐 321     

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鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設備，采用中頻感應加熱技術，在真空環(huán)境中對鈹金屬進行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器，蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集，實現高效提純。該設備一次蒸餾量可達3000克，具備工業(yè)化生產規(guī)模，操作簡便，且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便，適合大規(guī)模生產高純度鈹金屬。

立式真空爐 441     

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立式真空爐是一種在真空環(huán)境下對材料進行高溫處理的設備，廣泛應用于金屬熱處理、陶瓷燒結、粉末冶金、半導體制造等領域。

預抽真空淬火爐 241     

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預抽真空淬火爐是一種先進的熱處理設備，廣泛應用于金屬材料的淬火處理，尤其適用于對表面質量、機械性能和精度要求較高的工件。

二次加料真空熔煉爐 242     

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二次加料真空熔煉爐采用德國原裝IGBT變頻及功率調節(jié)，可連續(xù)24小時滿負載工作，配備西門子PCL控制系統(tǒng)，確保穩(wěn)定、高效和智能化操作。設備最高溫度可達2600℃，最快2分鐘溶解一爐，適合多種金屬熔煉。機箱密封性高，支持真空及惰性氣體保護，增加材料密度并降低損耗率。特設機械攪拌功能，適合高均勻度合金熔解，還可進行真空狀態(tài)下的二次加料，滿足特殊加料需求。

1600℃電磁感應加熱真空鑄錠機 350     

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1600℃電磁感應加熱真空鑄錠機（一出四塊，4kg）可定制，專為鑄造高質量金條、金錠、銀錠等設計，一次可鑄造4塊1kg金錠或一個15kg金條。設備在真空條件下操作，完全隔絕火焰，消除成品表面波紋，防止氧化，確保無貴金屬損失，實現無氧化、無波紋的高質量鑄造效果。

2600℃電磁感應加熱真空熔煉爐 229     

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采用IGBt變頻及功率調節(jié)，滿足連續(xù)24小時滿負負載工作 快速溶解多種金屬，最高溫度可達2600度，最快兩分鐘溶解一爐，380V三相國標5線電源線安全可靠，高穩(wěn)定的加熱系統(tǒng)及可靠的質檢保護功能，使得整臺設備更加經久耐用，在真空和惰性氣體保護下，完美的解決了熔煉金塊或銀塊中金屬被氧化，金屬收縮形狀不規(guī)則的波紋等問題。

1400℃開啟式真空管式爐 244     

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1400℃開啟式真空管式爐采用氧化鋁多晶纖維固化爐膛，工作溫度區(qū)間可根據實驗需求選配電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒加熱，配備程序控溫系統(tǒng)。爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，支持抽真空和通氣氛，爐膛結構可選開啟式或封閉式。該設備適用于大專院校、科研院所及企事業(yè)單位研發(fā)中心的材料高溫燒結、研發(fā)與低溫處理，以及小批量生產，支持精細氣氛控制，可通保護氣體和弱還原性氣體，具備燒結速度快、效率高、應用范圍廣等特點。

小型熔融真空管式爐 231     

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小型熔融真空管式爐采用氧化鋁多晶纖維固化爐膛，工作溫度范圍100℃至1600℃，配備程序控溫系統(tǒng)。爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，法蘭上可選配石英觀察窗，便于觀察固體在高溫下雜質的熔融過程。該設備適用于大專院校、科研院所及企事業(yè)單位研發(fā)中心實驗室的教學與研究分析。

三溫區(qū)立式真空管式爐 298     

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三溫區(qū)立式真空管式爐采用立式結構，側面可打開爐膛，爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，配備氣嘴、閥門和壓力表，可連接不同真空系統(tǒng)實現多種真空效果。設備三路單獨控溫，可根據試樣要求梯度控溫，溫場均勻。爐管固定于支撐架上，使用方便，操作簡單，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點。適用于大專院校、科研院所和企事業(yè)技術研發(fā)中心的材料高溫燒結、研發(fā)與低溫處理，以及小批量生產，可提供精細氣氛控制，支持通保護氣體和弱還原性氣體，具備燒結速度快、效率高、應用范圍廣等特點。

不銹鋼真空氣氛爐/脫脂爐 425     

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不銹鋼真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，外加熱方式，采用控溫系統(tǒng)，可控硅控制。爐膽采用耐高溫、耐壓、310S不銹鋼；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有水冷，以防密封圈過快老化，保證爐門與爐膽的可靠密封。

帶懸壁真空觸摸爐 237     

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帶懸壁真空觸摸爐以硅鉬棒為加熱元件，內加熱方式，采用控溫系統(tǒng)，可控硅控制；爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫效果好；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有水冷，以防密封圈過快老化，保證爐門與爐膽的可靠密封。

高溫真空氣氛爐 331     

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高溫真空氣氛爐,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，以硅碳棒/硅鉬棒為加熱元件。雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有循環(huán)水冷，側開式爐門結構。能快速升降溫，滿足生產的不同需求。

310S真空氣氛爐 458     

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310S真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，外加熱方式，采用控溫系統(tǒng)，可控硅控制。爐膽采用耐高溫、耐壓、310S不銹鋼；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有水冷，以防密封圈過快老化，保證爐門與爐膽的可靠密封。

雙開門真空氣氛爐 240     

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SG-XQL1200型箱式真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，采用控溫系統(tǒng)，可控硅控制；爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫效果好；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統(tǒng)，能快速降溫，爐門配有水冷，以防密封圈過快老化，保證爐門與爐膽的可靠密封。

數顯真空井式爐 279     

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數顯真空井式爐采用頂部開啟式爐門，以硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和控溫系統(tǒng)。爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，節(jié)能。

真空井式熱處理爐 252     

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小型井式爐采用頂部開啟式爐門，以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和控溫系統(tǒng)。爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，保溫性能好，節(jié)能。

雙管真空管式爐 262     

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雙管真空管式爐采用氧化鋁多品纖維經固化爐膛，可同時放二根或多根爐管，每根石英管或剛玉管配獨立控溫系統(tǒng)，配有真空和保護氣體接口及泄壓閥和真空表，可同時開展多種不同工藝試驗。設備外形小巧美觀，結構設計合理，使用方便。

真空臺車爐 279     

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真空臺車爐系列是高效、節(jié)能、環(huán)保新型電爐，具有獨特的設計技術，外形美觀大方，結構先進合理，操作簡單方便，外殼采用優(yōu)質冷軋鋼板，經精密數控機床加工后再使用進口環(huán)氧粉末靜電噴塑工藝加工而成，耐高溫，耐腐蝕，長久不退色。

真空中頻感應熔煉爐 244     

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本爐采用了立式結構，有利于裝料和在金屬冶煉過程中不破壞熔煉室真空情況下，進行測溫、取樣、添加合金元素等功能；與此同時可充入惰性氣體以控制爐內壓力與氣氛。該爐型采用的水冷匯流軟電纜回轉電極的結構，有節(jié)電耐用等優(yōu)點。中頻電源為IGBT變頻裝置。成套設備平面布局便于操作、維護和檢修，結構緊湊，這些對于現代化生產和科學研究實驗用的真空感應爐都是十分必要的。