權利要求書： 1.一種光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述光學金屬結構件的電解著色方法包括如下步驟：

S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化處理和脫脂去油處理，其中：所述粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡35±5S，所述粗化液為濃度100±

10g/l的氟化氫銨溶液，溫度為55±5℃；

所述脫脂去油處理：將所述粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡10±

1min，溫度為55±5℃；

S2、氧化：將所述步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45±1min，2

所述氧化槽液為濃度200±20g/l的硫酸溶液，電流密度為1.0±0.1A/dm，氧化電壓為16～

17，氧化溫度為20±2℃；

S3、電解著色：將所述步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300±20S，所述電解裝置中容納有電解液，所述電解液包括濃度20g±2g/l的硫酸亞錫溶液和濃度12g±1g/l的分析純硫酸溶液，PH值為1～1.5，電解著色電壓高于所述氧化電壓2～3，獲得光學金屬結構件半成品；

S4、化學補色：將所述步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5±

1min，所述補色液為與所述光學金屬結構件半成品同色且濃度為5±1g/l的溶液，溫度為55±5℃，所述補色液為染料色號415的溶液；

S5、封孔；

S6、烘干。

2.如權利要求1所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述電解裝置包括用于容納所述電解液的槽體(1)、導電桿(2)、兩個導電座(3)和多個氣缸(9)，兩所述導電座(3)用于支撐所述導電桿(2)，并分別位于所述槽體(1)的兩對側，所述導電桿(2)上搭載有用于放置工件(6)的掛具(5)，所述導電座(3)的底部與對應所述氣缸(9)的活塞桿連接，所述氣缸(9)的缸體固定在所述槽體(1)或地面上，所述氣缸(9)的活塞桿上還套設有用于減震的彈簧(7)。

3.如權利要求2所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述槽體(1)上開設有用于對所述氣缸(9)的活塞桿進行導向的導向裝置。

4.如權利要求2或3所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述氣缸(9)的行程為50mm，上下震動的頻次為3次/min。

5.如權利要求1所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件還依次經過水洗、去灰、水洗處理。

6.如權利要求1所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述脫脂液為濃度35±5g/l的843?II去油劑溶液。

7.如權利要求1所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品還置于濃度50±5g/l的分析純硫酸溶液中浸泡120±5S進行去灰。

8.如權利要求7所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述步驟S1～S5中，各所述步驟執(zhí)行完成后還分別進行水洗兩至三次。

9.如權利要求1所述的光學金屬結構件的電解著色方法，其特征在于：所述封孔：將所述步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10±1min，所述封孔液為濃度

7±1g/l的DX?500溶液，溫度為70±5℃，PH值為5.8～6.5。

說明書： 一種光學金屬結構件的電解著色方法技術領域[0001] 本發(fā)明屬于金屬表面處理技術領域，具體涉及一種光學金屬結構件的電解著色方法。

背景技術[0002] 隨著現(xiàn)代光學技術的發(fā)展，激光光源在我們的現(xiàn)實生活中得到廣泛應用，并且在工廠企業(yè)內已經量產，但對隨之配套的光學金屬結構件也帶來了很大的新課題，即激光光

源很高的照射溫度和照度對光學金屬結構件的氧化處理膜層有著極高的要求。根據市場上

客戶所需要的老化試驗機的條件(110℃、4mm照射距離、3500流明以上的照度)。對于普通陽

極氧化的膜層4～6小時就會變色、甚至發(fā)白。對于微弧氧化，由于其工藝特性時把鋁材本身

氧化成陶瓷性質，所以其膜層非常的耐溫、耐照，但由于其工藝特性膜層厚度動輒在十幾個

um的范圍浮動，而光學金屬結構件的公差通常只有15um，所以微弧氧化工藝不適用于精密

的光學金屬結構件上。對于電解著色，通常采用無機鹽電解著色，而無機鹽的熔點、沸點都

在1000℃以上，所以可以滿足光照要求，同時滿足膜厚控制。

[0003] 現(xiàn)有的電解著色技術基本都用在大型的氧化設備上做大型材料，比如型材、門框、柵欄等裝飾部件上。這些部品的前處理都需要做強烈的堿蝕，如做將近兩分鐘的堿蝕或者

化學拋光，去掉的尺寸會在25個um左右，對零件的尺寸有相當大的影響。且如果不進行堿蝕

或化學拋光的工序，在有尖邊的地方就會出現(xiàn)一圈的白邊(光學結構件基本上都有尖銳的

倒角和相互連接配合的螺紋、很多零件內壁為了減小雜散光都設計了消光絲的結構，都是

存在尖邊的)，無法滿足承靠鏡片的光學金屬結構件內腔需要黑色消光的需求和保證外觀

顏色一致的要求。另外，電解著色時，因為槽液的主要成分為硫酸和硫酸亞錫鹽，游離狀態(tài)

的硫酸亞錫時非常容易分解，若槽液進行攪拌，則整槽的槽液就會報廢，但若不進行攪拌，

在電解著色的過程中產生的氣泡無法從有腔體的工件中排出，氣泡會附著在光學金屬結構

件的內腔無法排出，隔離光學金屬結構件與槽液接觸從而產生白斑。

發(fā)明內容[0004] 本發(fā)明的目的在于針對上述問題，提出一種光學金屬結構件的電解著色方法，滿足光學金屬結構件的高精度、耐熱和耐光照的性能要求，可避免工件尖邊出現(xiàn)白邊和內腔

產生的氣泡形成白斑，外觀一致性好。

[0005] 為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采取的技術方案為：[0006] 本發(fā)明提出的一種光學金屬結構件的電解著色方法，包括如下步驟：[0007] S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化和脫脂去油處理；[0008] S2、氧化：將步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45±1min，2

氧化槽液為濃度200±20g/l的硫酸溶液，電流密度為1.0±0.1A/dm ，氧化電壓為16～17，

氧化溫度為20±2℃；

[0009] S3、電解著色：將步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300±20S，電解裝置中容納有電解液，電解液包括濃度20±2g/l的硫酸亞錫溶液和濃度

12±1g/l的分析純硫酸溶液，PH值為1～1.5，電解著色電壓高于氧化電壓2～3，獲得光學

金屬結構件半成品；

[0010] S4、化學補色：將步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5±1min，補色液為與光學金屬結構件半成品同色且濃度為5±1g/l的溶液，溫度為55±5℃；

[0011] S5、封孔；[0012] S6、烘干。[0013] 優(yōu)選地，電解裝置包括用于容納電解液的槽體、導電桿、兩個導電座和多個氣缸，兩導電座用于支撐導電桿，并分別位于槽體的兩對側，導電桿上搭載有用于放置工件的掛

具，導電座的底部與對應氣缸的活塞桿連接，氣缸的缸體固定在槽體或地面上，氣缸的活塞

桿上還套設有用于減震的彈簧。

[0014] 優(yōu)選地，槽體上開設有用于對氣缸的活塞桿進行導向的導向裝置。[0015] 優(yōu)選地，氣缸的行程為50mm，上下震動的頻次為3次/min。[0016] 優(yōu)選地，粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡35±5S，粗化液為濃度100±10g/l的氟化氫銨溶液，溫度為55±5℃。

[0017] 優(yōu)選地，步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件還依次經過水洗、去灰、水洗處理。

[0018] 優(yōu)選地，脫脂去油處理：將步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡10±1min，脫脂液為濃度35±5g/l的843?II去油劑溶液，溫度為55±5℃。

[0019] 優(yōu)選地，步驟S3中電解著色后的光學金屬結構件還置于濃度50±5g/l的分析純硫酸溶液中浸泡120±5S進行去灰。

[0020] 優(yōu)選地，步驟S1～S5中，各步驟執(zhí)行完成后還分別進行水洗兩至三次。[0021] 優(yōu)選地，封孔：將步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10±1min，封孔液為濃度7±1g/l的DX?500溶液，溫度為70±5℃，PH值為5.8～6.5。

[0022] 與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果為：[0023] 1)無需經過長時間的堿洗或化拋去除毛刺尖邊，滿足光學金屬結構件的高精度、耐熱和耐光照的性能要求，保證光學金屬結構件獲得10um～15um內的公差，且有助于縮短

加工時間，提高生產效率。

[0024] 2)通過化學補色可避免工件尖邊出現(xiàn)白邊，保持良好的外觀一致性；[0025] 3)通過控制工件上下震動的行程和頻次，避免工件內腔氣泡形成的白斑，并通過緩沖減震避免工件與掛具導電不良，外觀一致性好。

附圖說明[0026] 圖1為本發(fā)明的電解裝置的結構示意圖。[0027] 附圖標記說明：1、槽體；2、導電桿；3、導電座；4、電纜；5、掛具；6、工件；7、彈簧；8、支座；9、氣缸。

具體實施方式[0028] 下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒?br>
申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實

施例，都屬于本申請保護的范圍。

[0029] 需要說明的是，當組件被稱為與另一個組件“連接”時，它可以直接與另一個組件連接或者也可以存在居中的組件。除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與

屬于本申請的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本申請的說明書中所使

用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是在于限制本申請。

[0030] 如圖1所示，一種光學金屬結構件的電解著色方法，包括如下步驟：[0031] S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化和脫脂去油處理；[0032] S2、氧化：將步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45±1min，2

氧化槽液為濃度200±20g/l的硫酸溶液，電流密度為1.0±0.1A/dm ，氧化電壓為16～17，

氧化溫度為20±2℃；

[0033] S3、電解著色：將步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300±20S，電解裝置中容納有電解液，電解液包括濃度20±2g/l的硫酸亞錫溶液和濃度

12±1g/l的分析純硫酸溶液，PH值為1～1.5，電解著色電壓高于氧化電壓2～3，獲得光學

金屬結構件半成品；

[0034] S4、化學補色：將步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5±1min，補色液為與光學金屬結構件半成品同色且濃度為5±1g/l的溶液，溫度為55±5℃；

[0035] S5、封孔；[0036] S6、烘干。[0037] 其中，工件6為光學金屬結構件，工件6的電解著色電壓高于氧化電壓2～3，如工件6為6061材料，氧化電壓為16，則電解著色電壓為18～19。由于氧化膜層的半導體特性，

電解著色時為交流電，正電壓時修復氧化膜膜層底部，負電壓時產生電解作用把錫鹽沉到

氧化膜孔底產生黑色，采用比氧化時更高的電壓，可更好更徹底的把電解的錫鹽電解到氧

化膜的孔底，使得電解著色的工件6獲得良好的外觀一致性，不會出現(xiàn)發(fā)紅、古銅色等不良

現(xiàn)象。為保證光學金屬結構件的公差在10um～15um內，氧化的氧化膜厚度范圍保證在15.5

±1um內。需要說明的是，在保證電解著色電壓高于氧化電壓時，具體壓差值還可根據實際

需求進行調整，如可根據不同材料的特性進行調整。

[0038] 光學金屬結構件的尖邊部分形成的氧化膜層往往與光學金屬結構件不連接或連接不充分，近似于懸浮在槽液里，不產生或者不完全產生電解著色反應，在電解著色時半導

體特性不能完全體現(xiàn)，使得尖邊部分存在部分沒有著色到位的現(xiàn)象，肉眼顯現(xiàn)為白邊或者

星星點點的白斑。通過化學補色，將工件6置于補色液中浸泡5±1min，補色液為與光學金屬

結構件半成品同色且濃度為5±1g/l的溶液，溫度為55±5℃?；瘜W補色時，利用尖邊部分形

成的懸浮氧化膜在槽液中的氧化膜層產生的吸附力進行著色，彌補尖邊部分的白邊或白斑

缺陷。

[0039] 本申請無需經過長時間的堿洗或化拋去除毛刺尖邊，滿足光學金屬結構件的高精度、耐熱和耐光照的性能要求，保證光學金屬結構件獲得10um～15um內的公差，且有助于縮

短加工時間，提高生產效率。通過化學補色可避免工件尖邊出現(xiàn)白邊或白斑，獲得良好的外

觀一致性。

[0040] 在一實施例中，電解裝置包括用于容納電解液的槽體1、導電桿2、兩個導電座3和多個氣缸9，兩導電座3用于支撐導電桿2，并分別位于槽體1的兩對側，導電桿2上搭載有用

于放置工件6的掛具5，導電座3的底部與對應氣缸9的活塞桿連接，氣缸9的缸體固定在槽體

1或地面上，氣缸9的活塞桿上還套設有用于減震的彈簧7。

[0041] 其中，電解裝置包括槽體1、導電桿2、兩個導電座3和多個氣缸9，優(yōu)選兩個氣缸9，氣缸9與導電座3一一對應連接，分別位于槽體1的兩對側，且槽體1的兩對側還設有與地面

固連的支座8，各氣缸9同步運動。導電座3連接有電纜4，如為100A的紫銅電纜，便于氣缸9帶

動導電座3上下運動，從而帶動導電座3上支撐的導電桿2上下運動，導電桿2上搭載有用于

放置工件6的掛具5，導電座3的底部與氣缸9的活塞桿連接，氣缸9的缸體固定在支座8上，氣

缸9的活塞桿上還套設有用于減震的彈簧7。需要說明的是，氣缸9的缸體還可固定在槽體1

上，且氣缸9的數量還可根據氣缸型號或載荷大小進行設置。

[0042] 因為在電解著色時工件6除了與掛具5連接的地方均有氧化膜的，通過增加減震彈簧7，避免震動太大造成工件6與掛具5產生不導電的情況，保證電解著色工序的正常進行，

且在進行電解著色的時候工件6內腔產生的氣泡可隨著氣缸9的運動進行上下晃動，在水流

的沖擊下從工件6內部排出，消除氣泡產生的白斑，獲得較高的外觀質量。

[0043] 在一實施例中，槽體1上開設有用于對氣缸9的活塞桿進行導向的導向裝置。[0044] 其中，為增強氣缸9運動的穩(wěn)定性，提高使用壽命，同時避免傾斜卡頓，通過導向裝置對氣缸9的活塞桿進行導向，如導向裝置可為導軌滑塊機構，導軌豎向固定在槽體1的兩

對側，滑塊與氣缸9的活塞桿末端連接，還可直接采用導電座3與固定在槽體1上的導桿上下

滑動配合進行導向，或采用現(xiàn)有技術中的任意導向裝置進行導向。

[0045] 在一實施例中，氣缸9的行程為50mm，上下震動的頻次為3次/min。[0046] 其中，氣缸9的行程為50mm，上下震動的頻次為3次/min?？杀苊庑谐踢^大或震動頻次過高造成槽液分解失效，或震動太大造成工件6與掛具5導電不良。有助于消除氣泡產生

的白斑，獲得較高的外觀質量。且氣缸9的行程可根據實際需求進行調整。

[0047] 在一實施例中，粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡35±5S，粗化液為濃度100±10g/l的氟化氫銨溶液，溫度為55±5℃。

[0048] 其中，粗化處理可使光學金屬結構件的表面變得粗糙進而使被鍍物質附著力增強不易脫落，且有助于保證光學金屬結構件獲得10um～15um內的公差，進而滿足光學金屬結

構件的高精度要求。

[0049] 在一實施例中，步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件還依次經過水洗、去灰、水洗處理。

[0050] 其中，光學金屬結構件還依次經過水洗兩次、去灰、水洗三次，水洗可采用浸泡或噴淋方式進行清洗，去灰時，將經過兩次水洗后的光學金屬結構件置于50％濃度工業(yè)硝酸

中浸泡預定時間進行中和。水洗次數和去灰工藝還可根據實際需求進行調整，通過對光學

金屬結構件進行表面凈化處理，有助于提高產品質量和合格率。

[0051] 在一實施例中，脫脂去油處理：將步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡10±1min，脫脂液為濃度35±5g/l的843?II去油劑溶液，溫度為55±5℃。

[0052] 其中，通過脫脂去油進行表面凈化，有利于保證后續(xù)處理中光學金屬結構件具有良好附著力。需要說明的是，脫脂液為843?II去油劑，還可根據實際需求選用其他型號的去

油劑，如ECH?35有機脫脂劑。

[0053] 在一實施例中，電解著色后的光學金屬結構件還置于濃度50g/l±5的分析純硫酸溶液中浸泡120S±5進行去灰。

[0054] 在一實施例中，步驟S1～S5中，各步驟執(zhí)行完成后還分別進行水洗兩至三次。[0055] 其中，水洗可采用浸泡或噴淋方式進行清洗，通過對光學金屬結構件進行表面凈化處理，有助于提高產品質量和合格率。

[0056] 在一實施例中，封孔：將步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10±1min，封孔液為濃度7g±1g/l的DX?500溶液，溫度為70±5℃，PH值為5.8～6.5。

[0057] 其中，為保護膜層，并進一步提高防腐性、耐候性和耐污染性，防止掉色進行封孔處理。需要說明的是，封孔液還可根據實際需求選用其他型號的封孔液。

[0058] 實施例1：[0059] 一種光學金屬結構件的電解著色方法，光學金屬結構件為6061材料的鏡筒，包括如下步驟：

[0060] S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化和脫脂去油處理，其中：[0061] 粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡35S，粗化液為濃度90g/l的氟化氫銨溶液，溫度為55℃。對粗化后的光學金屬結構件，先在水槽中浸泡水洗兩次，再取出浸

泡在50％濃度工業(yè)硝酸中2min進行中和去灰處理，然后再在水槽中浸泡水洗三次，對表面

進行凈化。

[0062] 脫脂去油處理：將步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡10min，脫脂液為濃度35g/l的843?II去油劑溶液，溫度為55℃。脫脂去油后在水槽中浸泡水

洗兩次。

[0063] S2、氧化：將步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45min，氧2

化槽液為濃度200g/l的硫酸溶液，電流密度為1.1A/dm，氧化電壓為16，氧化溫度為20℃，

獲得光學金屬結構件的氧化膜厚度為15.5um。然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0064] S3、電解著色：將步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300S，電解裝置中容納有電解液，電解液包括濃度20g/l的硫酸亞錫溶液和濃度12g/l的

分析純硫酸溶液，PH值為1.5，電解著色電壓為18，氣缸9的行程為50mm，上下震動的頻次為

3次/min，獲得光學金屬結構件半成品。將光學金屬結構件半成品置于濃度為50g/l的分析

純硫酸中浸泡120S進行去灰，然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0065] S4、化學補色：將步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5min，補色液為濃度為5g/l、染料色號415的溶液，染料色號采用日本奧野染料標準，溫度為55℃。

然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0066] S5、封孔：將步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10min，封孔液為濃度7g/l的DX?500溶液，溫度為70℃，PH值為6.5。然后在水槽中浸泡水洗兩次，再通

過純水洗一次。

[0067] S6、烘干：將封孔后的光學金屬結構件置于烘干機中，烘干溫度90℃，烘干時間20min，即可獲得外觀一致性良好的光學金屬結構件。需要說明的是，還可提高烘干溫度，進

一步縮短烘干時間，提高烘干效率。

[0068] 實施例2：[0069] 一種光學金屬結構件的電解著色方法，光學金屬結構件為6061材料的鏡筒，包括如下步驟：

[0070] S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化和脫脂去油處理，其中：[0071] 粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡40S，粗化液為濃度95g/l的氟化氫銨溶液，溫度為50℃。對粗化后的光學金屬結構件，先在水槽中浸泡水洗兩次，再取出浸

泡在50％濃度工業(yè)硝酸中2min進行中和去灰處理，然后再在水槽中浸泡水洗三次，對表面

進行凈化。

[0072] 脫脂去油處理：將步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡11min，脫脂液為濃度30g/l的843?II去油劑溶液，溫度為50℃。脫脂去油后在水槽中浸泡水

洗兩次。

[0073] S2、氧化：將步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45min，氧2

化槽液為濃度180g/l的硫酸溶液，電流密度為1.1A/dm，氧化電壓為16，氧化溫度為18℃，

獲得光學金屬結構件的氧化膜厚度為14.7um。然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0074] S3、電解著色：將步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300S，電解裝置中容納有電解液，電解液包括濃度20g/l的硫酸亞錫溶液和濃度12g/l的

分析純硫酸溶液，PH值為1.5，電解著色電壓為18，氣缸9的行程為50mm，上下震動的頻次為

3次/min，獲得光學金屬結構件半成品。將光學金屬結構件半成品置于濃度為50g/l的分析

純硫酸中浸泡120S進行去灰，然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0075] S4、化學補色：將步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5min，補色液為濃度為4g/l、染料色號415的溶液，染料色號采用日本奧野染料標準，溫度為60℃。

然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0076] S5、封孔：將步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10min，封孔液為濃度7g/l的DX?500溶液，溫度為70℃，PH值為6.5。然后在水槽中浸泡水洗兩次，再通

過純水洗一次。

[0077] S6、烘干：將封孔后的光學金屬結構件置于烘干機中，烘干溫度90℃，烘干時間20min，即可獲得外觀一致性良好的光學金屬結構件。需要說明的是，還可提高烘干溫度，進

一步縮短烘干時間，提高烘干效率。

[0078] 實施例3：[0079] 一種光學金屬結構件的電解著色方法，光學金屬結構件為6061材料的鏡筒，包括如下步驟：

[0080] S1、前處理：將光學金屬結構件依次進行粗化和脫脂去油處理，其中：[0081] 粗化處理：將光學金屬結構件置于粗化液中浸泡30S，粗化液為濃度110g/l的氟化氫銨溶液，溫度為60℃。對粗化后的光學金屬結構件，先在水槽中浸泡水洗兩次，再取出浸

泡在50％濃度工業(yè)硝酸中2min進行中和去灰處理，然后再在水槽中浸泡水洗三次，對表面

進行凈化。

[0082] 脫脂去油處理：將步驟S1中粗化處理后的光學金屬結構件置于脫脂液中浸泡10min，脫脂液為濃度40g/l的843?II去油劑溶液，溫度為60℃。脫脂去油后在水槽中浸泡水

洗兩次。

[0083] S2、氧化：將步驟S1中前處理后的光學金屬結構件置于氧化槽液中氧化45min，氧2

化槽液為濃度220g/l的硫酸溶液，電流密度為1.1A/dm，氧化電壓為16，氧化溫度為22℃，

獲得光學金屬結構件的氧化膜厚度為16.5um。然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0084] S3、電解著色：將步驟S2中氧化后的光學金屬結構件置于電解裝置中進行電解著色300S，電解裝置中容納有電解液，電解液包括濃度20g/l的硫酸亞錫溶液和濃度12g/l的

分析純硫酸溶液，PH值為1.5，電解著色電壓為19，氣缸9的行程為50mm，上下震動的頻次為

3次/min，獲得光學金屬結構件半成品。將光學金屬結構件半成品置于濃度為50g/l的分析

純硫酸中浸泡120S進行去灰，然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0085] S4、化學補色：將步驟S3中獲得的光學金屬結構件半成品置于補色液中浸泡5min，補色液為濃度為6g/l、染料色號415的溶液，染料色號采用日本奧野染料標準，溫度為50℃。

然后在水槽中浸泡水洗三次。

[0086] S5、封孔：將步驟S4中化學補色后的光學金屬結構件置于封孔液中浸泡10min，封孔液為濃度7g/l的DX?500溶液，溫度為75℃，PH值為5.8。然后在水槽中浸泡水洗兩次，再通

過純水洗一次。

[0087] S6、烘干：將封孔后的光學金屬結構件置于烘干機中，烘干溫度90℃，烘干時間20min，即可獲得外觀一致性良好的光學金屬結構件。需要說明的是，還可提高烘干溫度，進

一步縮短烘干時間，提高烘干效率。

[0088] 在實施例1、實施例2和實施例3中，均可獲得滿足光學金屬結構件的高精度、耐熱和耐光照性能要求的鏡筒，光學金屬結構件的公差控制在10um～15um內，且大大縮短加工

時間，提高生產效率，避免工件出現(xiàn)白邊或白斑，鏡筒能夠獲得良好的外觀一致性，在實際

使用中有助于消除雜散光，使得光路按照設計要求通過。

[0089] 以上所述實施例的各技術特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各技術特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術特征的組合不存在

矛盾，都應當認為是本說明書記載的范圍。

[0090] 以上所述實施例僅表達了本申請描述較為具體和詳細的實施例，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離

本申請構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本申請的保護范圍。因此，

本申請專利的保護范圍應以所附權利要求為準。