本發(fā)明實(shí)施例提供了一種基于緩沖層進(jìn)行深刻蝕的掩蔽方法,該方法包括:在襯底上形成
功能材料層;在所述功能材料層上形成緩沖層;在所述緩沖層上涂敷一層抗蝕劑材料;對所述抗蝕劑材料進(jìn)行平面曝光,在所述抗蝕劑材料上形成預(yù)設(shè)的微結(jié)構(gòu)圖形;將抗蝕劑材料上的微結(jié)構(gòu)圖形轉(zhuǎn)移到所述緩沖層上;將緩沖層上的微結(jié)構(gòu)圖形深刻蝕到所述功能材料層上;去除抗蝕劑材料和緩沖層,獲得具有微結(jié)構(gòu)圖形的功能材料。通過增加緩沖層保證對功能材料進(jìn)行深刻蝕的質(zhì)量。
聲明:
“基于緩沖層進(jìn)行深刻蝕的掩蔽方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)