本發(fā)明公開了一種在Si襯底上制備高(100)取向BiFeO3薄膜的方法,屬于
功能材料制備技術領域。對Si襯底進行預處理;利用脈沖激光沉積方法,采用LaNiO3靶材,在上述襯底上制備高取向的LaNiO3薄膜;利用脈沖激光沉積方法,采用BiFeO3靶材,在LaNiO3薄膜上制備高取向的BiFeO3薄膜。本發(fā)明制備的產(chǎn)品兼容性好,膜晶粒大小均勻,排列致密,結晶度高,取向性好。
聲明:
“在Si襯底上制備高(100)取向BiFeO3薄膜的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)