本發(fā)明涉及一種硫化鎳納米帶的制備方法，屬于納米材料制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明采用靜電紡絲技術(shù)與硫化技術(shù)相結(jié)合，制備了NiS納米帶。本發(fā)明包括三個(gè)步驟：(1)配制紡絲液。將Ni(NO3)2·6H2O和PVP，加入到DMF溶劑中，形成紡絲液；(2)制備NiO納米帶。采用靜電紡絲技術(shù)制備PVP/Ni(NO3)2復(fù)合納米帶，再進(jìn)行熱處理得到NiO納米帶；(3)制備NiS納米帶。采用CS2對(duì)NiO納米帶進(jìn)行硫化處理，得到結(jié)構(gòu)新穎純相的NiS納米帶，具有良好的結(jié)晶性，屬于六方晶系，空間群為P63/mmc。NiS納米帶的寬度為0.8～2.4μm，厚度83.2nm，長度大于100μm。NiS納米帶是一種重要的功能材料，將在光催化、紅外探測、太陽能存儲(chǔ)、光敏材料等領(lǐng)域得到應(yīng)用。本發(fā)明的制備方法簡單易行，可以批量生產(chǎn)，具有廣闊的應(yīng)用前景。