本發(fā)明提供一種不需要對圍堰實(shí)施表面處理(疏液化處理),由此簡化了工序、提高了生產(chǎn)效率的膜圖案的形成方法、和由此獲得的膜圖案以及器件和電光學(xué)裝置等。該膜圖案的形成方法將功能液(X1)配置在基板(P)上來形成膜圖案。包括以下工序:在基板(P)上形成與膜圖案的形成區(qū)域?qū)?yīng)的圍堰(B);在由圍堰劃分的區(qū)域(34)配置功能液(X1);和對功能液(X1)實(shí)施固化處理而形成膜圖案。在形成圍堰(B)的工序中,首先涂敷聚硅氨烷液或聚硅氧烷液,接著對其進(jìn)行曝光、顯影,形成圖案,然后通過燒結(jié),形成在側(cè)鏈上具有疏水基,并將硅氧烷結(jié)合作為骨架的材質(zhì)的圍堰,作為功能液(X1),使用水系分散介質(zhì)或含有溶劑的液狀體。