本發(fā)明涉及一種聚3?羧基噻吩/噻吩插層水滑石
復(fù)合材料及其制備工藝,屬于有機(jī)?無(wú)機(jī)復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域。所述材料的化學(xué)式為:[(M2+)1?x(M3+)x(OH)2]x+(PTHC/TH)n?x/n·mH2O,其中,x=0.25~0.33,n=5~35,m=2~4,m為層間結(jié)晶水分子的數(shù)量,PTHC/TH為聚3?羧基噻吩/噻吩。所述的制備工藝是先制備水滑石前體,再將3?羧基噻吩插層水滑石,最后使得3?羧基噻吩和噻吩在水滑石層間發(fā)生原位聚合。該復(fù)合材料機(jī)械強(qiáng)度高、耐高溫、耐腐蝕性氣體、耐酸堿,在電容器、能源、新型電池等領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。
聲明:
“聚3-羧基噻吩/噻吩插層水滑石復(fù)合材料及其制備工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)