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N摻雜的多孔硅基復(fù)合材料及其制備方法和用途

885   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:24:02
本發(fā)明提供了一種N摻雜的多孔硅基復(fù)合材料及其制備方法和用途,所述多孔硅基復(fù)合材料中的N來源為含有一個或多個氨烴基支鏈的有機硅氧烷單體,即來源于所述有機硅氧烷單體中的氨烴基支鏈,所述N元素的摻雜顯著提高了該多孔硅基復(fù)合材料的導電性。所述多孔硅基復(fù)合材料在制備過程中任選地加入還原劑,所述還原劑的加入促進了由該有機硅氧烷單體為前驅(qū)體形成的硅氧化物的還原,使得生成的Si晶粒鑲嵌在未還原的硅氧化物基質(zhì)中,而該硅氧化物能夠緩沖Si晶粒在充放電中的體積效應(yīng)。所述多孔硅基復(fù)合材料在制備過程中經(jīng)HF的刻蝕,在該復(fù)合材料內(nèi)部形成大量的空隙,使其形成多孔硅基復(fù)合材料,同樣起到緩沖體積效應(yīng)的作用。
聲明:
“N摻雜的多孔硅基復(fù)合材料及其制備方法和用途” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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