本發(fā)明涉及納米
復合材料技術領域,特別屬于一種光催化復合材料領域,具體涉及一種四氧化三鈷修飾的介孔氮化碳納米復合材料的制備方法。本發(fā)明提供一種四氧化三鈷修飾介孔氮化碳納米復合材料的制備方法,其主要特征是利用介孔氮化碳材料為基底,采用一步合成方法負載均勻分布的四氧化三鈷納米顆粒。本發(fā)明首次將四氧化三鈷納米顆粒引入介孔氮化碳,可有效降低貴金屬材料光敏化劑的制備成本。該方法簡單易行,所制備得的復合
納米材料在光催化等領域具有巨大的應用前景。
聲明:
“四氧化三鈷修飾介孔氮化碳納米復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)