本發(fā)明公開了一種黑色矩陣
復(fù)合材料,其包括以下按質(zhì)量百分?jǐn)?shù)混合的各組分:14.8%~15.7%的炭黑、3.1%~5.0%的染料、3.5%~4.1%的分散劑、2.8%~4.1%的親疏調(diào)節(jié)聚合物、5.7%~7.3%的交聯(lián)聚合物、1.8%~2.3%的交聯(lián)單體、0.8%~1.1%的活化引發(fā)劑、2%~2.4%的界面活性劑以及59.9%~63.7%的溶劑。本發(fā)明通過以一定量的具有低介電常數(shù)和低反射率的染料取代部分炭黑,而形成上述全新的黑色矩陣復(fù)合材料,相比現(xiàn)有技術(shù)中的炭黑類黑色矩陣材料,可降低其導(dǎo)電性,從而使其在應(yīng)用時(shí),可避免高介電常數(shù)的炭黑導(dǎo)致LCD中的TFT失效的問題;同時(shí),該黑色矩陣復(fù)合材料中的染料以分子的形式分布于體系之中,可以很好地緩解光的反射。本發(fā)明還公開了上述黑色矩陣復(fù)合材料的制備方法,其工藝制程簡單,可以廣泛地應(yīng)用于黑色矩陣材料的改善中。
聲明:
“黑色矩陣復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)