本發(fā)明屬于光催化降解技術(shù)領(lǐng)域,涉及夾層片狀Bi2O3/UiO?66?NH2
復(fù)合材料及其制備和應(yīng)用,制得方法為:先在超聲處理好的Bi2O3和ZrCl4的DMF溶液中加入2?氨基對(duì)苯二甲酸充分并持續(xù)攪拌,接著轉(zhuǎn)移至含特氟龍內(nèi)村的高壓反應(yīng)釜中,于150±10℃反應(yīng)20~30h。復(fù)合材料中UiO?66?NH2一方面可以使Bi2O3的禁帶寬度變窄,另一方面會(huì)擴(kuò)大可將光譜吸收范圍,提高可見光利用率,同時(shí)構(gòu)建了復(fù)合材料表面異質(zhì)結(jié),改變了電子遷移路徑,從而抑制電子?空穴對(duì)的復(fù)合,大大提高了光催化降解效率。
聲明:
“夾層片狀Bi2O3/UiO-66-NH2復(fù)合材料及其的制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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