本發(fā)明公開了一種光刻設備、
復合材料以及制造方法,所述光刻設備包括:照射系統(tǒng),構建用于調(diào)節(jié)輻射束;支撐件,構造用于支撐圖案形成裝置。所述圖案形成裝置能夠?qū)D案在輻射束的橫截面上賦予輻射束以便形成圖案化的輻射束。所述光刻設備進一步包括:襯底臺,構建用于保持襯底;和投影系統(tǒng),構建用于將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上。所述光刻設備可以設置有復合材料,其中,
碳纖維層和鈦層設置在所述復合物中。
聲明:
“光刻設備、復合材料以及制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)