本發(fā)明公開一種量子點(diǎn)
復(fù)合材料及其制備方法,所述量子點(diǎn)復(fù)合材料包括量子點(diǎn)核,包覆所述量子點(diǎn)核的間隔層,包覆所述間隔層的金屬層,其中所述間隔層的材料選自無機(jī)物或聚合物。本發(fā)明所提供的量子點(diǎn)復(fù)合材料,以量子點(diǎn)為核,量子點(diǎn)核外圍包覆間隔層和金屬層,使量子點(diǎn)有效地隔離環(huán)境,從而提高其穩(wěn)定性。同時(shí),在一定波長的光激發(fā)下,金屬外殼與量子點(diǎn)產(chǎn)生表面等離子體共振效應(yīng),從而進(jìn)一步提高量子點(diǎn)的發(fā)光強(qiáng)度。
聲明:
“量子點(diǎn)復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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