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具有SiC-HfB2-Si單層復(fù)合涂層的碳/碳復(fù)合材料的制備方法

682   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:39:01
本發(fā)明涉及一種具有SiC?HfB2?Si單層復(fù)合涂層的碳/碳復(fù)合材料的制備方法,采用料漿浸漬法在碳/碳表面制備樹(shù)脂碳?SiC?HfO2?B4C?Si多孔預(yù)涂層,隨后氣相滲硅,氣相硅與碳/碳基體反應(yīng)生成SiC過(guò)渡層,有利于提高涂層與基體的結(jié)合力。高溫?zé)Y(jié)使HfO2、B4C與樹(shù)脂碳發(fā)生原位反應(yīng)生成HfB2,有利于規(guī)避直接添加HfB2因其本身燒結(jié)性差引起的的顆粒分布不均問(wèn)題。硅在高溫環(huán)境下具有良好流動(dòng)性,最終可協(xié)同提高涂層的整體致密性。SiC、HfB2和Si在涂層中形成多相鑲嵌界面,HfB2釘扎在復(fù)合涂層中,可誘導(dǎo)涂層中裂紋偏轉(zhuǎn),還可緩解裂紋尖端應(yīng)力。本發(fā)明所制備的SiC?HfB2?Si復(fù)合抗氧化涂層具有一種新穎的過(guò)渡層及致密的鑲嵌結(jié)構(gòu),與基體結(jié)合良好,具有優(yōu)異的長(zhǎng)時(shí)抗氧化及抗熱震性能。
聲明:
“具有SiC-HfB2-Si單層復(fù)合涂層的碳/碳復(fù)合材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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