本發(fā)明設(shè)計半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過引入
石墨烯材料或石墨烯
復(fù)合材料層來提高晶片表面散熱能力和改善溫度均勻性的等離子體干法刻蝕用托盤系統(tǒng),包括鋁托盤、氦氣孔、密封圈、蓋板以及嵌入的高導(dǎo)熱性能的石墨烯材料(或石墨烯復(fù)合材料)層。本發(fā)明的優(yōu)點和積極效果在于:將高導(dǎo)熱系統(tǒng)的石墨烯材料或石墨烯復(fù)合材料引入等離子干法刻蝕的托盤系統(tǒng)中,有利于大大改善刻蝕過程中晶片的瞬時散熱能力,有利于控制晶片表面的溫度均勻性和提高刻蝕成品合格率及擴大刻蝕工藝的操作窗口。
聲明:
“等離子體干法刻蝕用的托盤系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)