本發(fā)明涉及冷卻領(lǐng)域,公開了一種被動式輻射冷卻
復(fù)合材料薄膜,其包括由下至上依次設(shè)置的傳導(dǎo)層和材質(zhì)為聚二甲基硅氧烷的基底層,在所述基底層內(nèi)嵌入一維周期性錐形微米金屬光柵陣列。被冷卻物體的熱輻射經(jīng)傳導(dǎo)層和金屬光柵陣列被輻射冷卻薄膜的基底層吸收并同步將熱量經(jīng)8?13μm的特定波段的“大氣窗口”發(fā)射出去,與此同時,外部環(huán)境(大氣、灰塵等)周圍大氣環(huán)境造成的再次熱輻射入射被輻射冷卻膜的金屬光柵陣列反射并阻斷,從而只允許被冷卻物體的熱輻射單向傳輸?shù)酵獠坑钪婵臻g,形成“單通道”輻射冷卻,起到輻射降溫的作用;本發(fā)明的被動式輻射冷卻復(fù)合材料薄膜可應(yīng)用于電子設(shè)備、機械設(shè)備等無法采用主動式冷卻降溫手段的場合。
聲明:
“單通道夜間被動式輻射冷卻膜” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)