本發(fā)明公開了一種基于Cu2-xS自摻雜半導(dǎo)體光熱材料的隱形指紋成像方法。本發(fā)明利用烯丙基硫醇的聚合作用,對具有較高光熱轉(zhuǎn)換效率的Cu2-xS自摻雜
半導(dǎo)體材料的表面進(jìn)行修飾,使其具有兩親性,能夠選擇性地吸附于隱形指紋上,并借助于近紅外光輻射和近紅外成像儀,實現(xiàn)了復(fù)雜背景下隱形指紋地清晰成像。此外,本發(fā)明利用Cu2-xS-CdSe@ZnS的納米
復(fù)合材料所構(gòu)筑的一種熒光-光熱雙模態(tài)成像方法,可以在實現(xiàn)指紋形貌成像完整的條件下,成功地檢測到隱形指紋里含有的2, 4, 6-三硝基甲苯等烈性爆炸品殘留物,為偵察犯罪分子犯罪證據(jù)提供了有力的手段,能夠在司法鑒定和反恐應(yīng)用中發(fā)揮重要作用。
聲明:
“Cu2-xS自摻雜半導(dǎo)體光熱材料及其在隱形指紋成像方面的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)