描述一種用于在基質(zhì)上形成圖像的掩模??蓪⒃撗谀_x擇性地涂于基質(zhì)上的輻射能敏感材料之上。施加在該
復合材料上的光化輻射使未被掩模覆蓋的那部分輻射能敏感材料發(fā)生化學變化。用適當?shù)膲A水溶液顯影劑除去該掩模和此部分輻射能敏感材料。該掩模由堿水溶液可溶解或可分散的聚合物和遮光劑組成。
聲明:
“掩模” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)