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掩模

1122   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:42:10
描述一種用于在基質(zhì)上形成圖像的掩模??蓪⒃撗谀_x擇性地涂于基質(zhì)上的輻射能敏感材料之上。施加在該復合材料上的光化輻射使未被掩模覆蓋的那部分輻射能敏感材料發(fā)生化學變化。用適當?shù)膲A水溶液顯影劑除去該掩模和此部分輻射能敏感材料。該掩模由堿水溶液可溶解或可分散的聚合物和遮光劑組成。
聲明:
“掩模” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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